aligner曝光機
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ABM. Inc. Mask Aligner光刻機
https://abmasia.com.hk
業界知名的曝光機制造商ABM, Inc.為半導體領域提供品質優良穩定的光罩對準紫外光刻機系統，被廣泛的應用於半導體黃光制程，微機電，發光二極體（LED ）晶片製造，顯示面板 ...
Auto Mask Aligner
https://www.mrnanotec.com.tw
科毅科技為追求本公司之曝光機(光刻機)、塗佈機、光罩、平行光源等光電設備之優良品質，不斷研發製造技術(微影製程/技術)，並設有class 1000 等級無塵室，使所造之光電設備 ...
Manual Mask Aligner
https://www.mrnanotec.com.tw
6吋垂直式曝光機. 雙面對準單面曝光機. 雙面曝光機. 簡易型曝光機. 水平式曝光機. 旋轉式曝光機. 快速曝光機. 小型步進曝光機. 大尺寸曝光機. 12吋垂直式曝光機. 快速曝光 ...
曝光機
https://zh.wikipedia.org
曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描式 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
https://www.goodtechnology.com
針對曝光機避震平台做各軸向的量測，可得知各軸向變化，並將振動訊息可視化是把量測到的數值直接轉換成可以直觀形象理解的圖形或圖像表示方式，搭配現場操作人員經驗 ...
自動光罩對準曝光機
https://www.suss.com
SUSS MicroTec設計的光罩對準曝光機系統，適用于3D封裝、先進封裝、MEMS、LED、化合物半導體、功率器件、光伏、納米技術和晶圓級光學領域的曝光應用。 SUSS MicroTec的光罩 ...
說明
https://zh.wikipedia.org
雙面光罩對準曝光機(B) (Double Side Mask Aligner (B))
https://nanofc.web.nycu.edu.tw
雙面光罩對準曝光機(B) (Double Side Mask Aligner (B)) ; 背面對準精度, CCD 對位精度, ≦ ±5um ; 背面Camera移動範圍, X-Axis 移動範圍, 行程-50mm ~ +120mm ; 背面Camera ...
雙面對準曝光機台標準操作步驟Double Side Mask Aligner (OAI ...
https://fangang.site.nthu.edu.
雙面對準曝光機台標準操作步驟(v2b). Double Side Mask Aligner (OAI J500) SOP. 清大工科新館704 Clean Room. 1. 檢查使用記錄簿. – 先確認機台已關機超過30 分鐘. 開機後 ...