stepper曝光機原理

Scanner光刻机和Stepper光刻机的区别

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光刻机的工作原理是：将芯片表面涂覆一层光刻胶，然后将光刻版放置在芯片表面上，通过光源和光学透镜对光刻版进行精确曝光，最终将芯片表面的光刻胶进行刻 ...

半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...

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曝光機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻掩膜版以1：1的尺寸緊 ...

微影照像

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3. 曝光（exposure）用光罩對準儀（mask aligner）或步進照像機（stepper）。 前者一次曝光一整片晶圓（wafer），後者以步進重覆方式，一次曝光數個晶. 片（chip）。更 ...

數位光阻材料技術與應用

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或者使用步進式曝光機(Stepper)如圖三(b)，但複雜的光學設計和曝光場域大小受到限制，曝光將按順序以步進重覆方式進行。因採用投影光學器件，可在沒有 ...

晶圓步進機之微影覆蓋模型誤差分析與補償

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曝光機

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從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描式（scanner），重複式（repeat）。截至2023年，12吋以上的晶圓大多 ...

曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?

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... 曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（英語：scanner），獲得比模板更小的曝光圖樣。 曝光機作動原理 ...

黃光微影製程技術

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類似投影機原理，將光罩上的圖. 形投影到光阻上。優點就是解析. 度可以很高，要配合步進設備。 最初是以1：1的方式進行投射對. 準，進而將比例放大為10：1或5：. 1的比例 ...

黄光制程简介

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曝光的作用. 侧面图. Light. Reticle. Lens. Resist. Wafer. 俯视图 ... 步进式曝光机：Stepper. 主要机台： Cannon iZ01. 2 ... Scanner 工作原理图1. Variable. NA. REMA.