曝光機原理：先進光學曝光系統與極紫外光(EUV)就?
先進光學曝光系統與極紫外光(EUV)就?
UV曝光機光學
https://www.control-optics.com
曝光機是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備，原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案，在生產積體電路的過程中，利用專屬波長的雷射和類似投影機原理，進行步進式曝光機或掃描式曝光機，以獲得比模板更小的曝光圖樣。
半導體產業不可或缺的曝光機，是「這些企業」的心血結晶！
https://www.stockfeel.com.tw
從原理上看，這種方法是使用一個非常高功率（超過30kW 平均脈衝功率的激光數，其脈衝峰值功率可高達幾兆瓦）的激光脈衝，打在不斷滴下的錫珠，然後轉化 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
https://www.charmingscitech.na
簡單來說，當工程師規劃好晶圓上各區域的功能後，會將電路圖刻在石英片上面，製作成「光罩」，當光束從光罩上方照下來，透過由透鏡組成的光學系統，照射到 ...
曝光機
https://zh.wikipedia.org
曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描 ...
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...
https://www.techbang.com
曝光機的原理其實像幻燈機一樣簡單，就是把光透過帶電路圖的掩膜（Mask，後來也叫光罩）投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻掩膜版以1：1的尺寸緊 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
https://www.goodtechnology.com
可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影機原理的步進式曝光機（英語：stepper）或掃描式曝光機（ ...
黃光微影製程技術
http://semi.tcfst.org.tw
類似投影機原理，將光罩上的圖. 形投影到光阻上。優點就是解析. 度可以很高，要配合 ... 電子束曝光系統的優點就是可以直接生產所需的圖. 形，利用線圈的電場或磁場 ...
解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」
https://www.thenewslens.com
ASML是荷蘭公司，目前也只有他們能夠掌握EUV曝光機，但他們的護城河是用「數十年的時間」+「全球化供應鏈管理」+「數百億美金」，打造一台猶如從地球 ...
整理包／英特爾拿下全球首台高數值孔徑EUV設備一 ...
https://money.udn.com
EUV、DUV曝光機對半導體先進製程相當重要，原理是「光學微影」技術，簡單來說就是「在晶圓上刻出精細的電路」，這是量產晶片時最重要的步驟。 利用 ...