nf3溫室氣體：三氟化氮
三氟化氮
三氟化氮
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三氟化氮（NF3）是鹵化氮中最穩定的無機化合物，可在銅的催化下由氨氣與氟氣製成。 它可以用作氟化氫雷射器的氧化劑，半導體、液晶和薄膜太陽能電池生產過程中的蝕刻劑。
三氟化氮最強力的溫室氣體現身
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三氟化氮，化學式NF3，迄今為止最強力的溫室氣體現身了。 NF3多用於製造平面電視、電腦顯示器、小型電路和太陽能版，是一種比二氧化碳強上17000倍的溫室氣體，而且分佈在大氣中的程度遠比之前預測的要多很多。 根據加州大學聖地牙哥校區的科學家研究， NF3在大氣中至少是之前科學家預測的四倍。
三氟化氮（NF3）在半導體及TFT
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不過NF3與CF4、C2F6等氣體都屬於多氟碳化物，是造成溫室效應的來源之一。半導體廠 ... 半導體廠為了降低排氣對溫室效應的影響，在排放含氟廢氣前，會以高溫（攝氏700、800度才 ...
下載及出版品
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但溫室氣體至少有下列七種：
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三氟化氮（NF3），主要在電腦製造過程中排放。 而二氧化碳（CO2）是對環境威脅最大的溫室氣體，不僅因為排放量大，且在大. 氣中會存在數百年以上，也因此，大多數國家 ...
氣候變遷因應法§3
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一、溫室氣體：指二氧化碳（CO2）、甲烷（CH4）、氧化亞氮（N2O）、氫氟碳化物（HFCs）、全氟碳化物（PFCs）、六氟化硫（SF6）、三氟化氮（NF3）及其他經中央主管機關公告者。
溫室氣體與溫室效應是甚麼呢？
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... 【NF3】 六氟化硫【SF6】、氫氟碳化物【HFCS】、全氟碳化物【PFCS】 讓我們地球的保護罩越來越厚。 後來就是我們現在感受到的極端氣候極度寒冷、極度炎熱所以減少溫室氣體 ...
運用實驗設計法找出廢氣處理設備去除三氟化氮(NF3)氣體之 ...
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隨著半導體業產業奈米製程科技發展進步，產品晶片規格不斷微縮，使用的製程氣體卻大幅上升，然而製程氣體中使用到的溫室氣體包含三氟化氮(NF3)、二氧化碳(CO2)、甲烷(CH4)、 ...