SUSS Aligner:Mask Aligner
Mask Aligner
TheSUSSMicroTecMaskAlignerhasbecomesynonymouswithsuperiorquality,highalignmentaccuracy,andsophisticatedexposureoptics.SUSSMicroTecoffersa ...。其他文章還包含有:「MA200Gen3MaskAligner」、「MA200Gen3掩模對準器」、「MA300Gen3Mask」、「MA300Gen3掩模對準器」、「MABAGen4系列掩模和鍵合對準器」、「ManualmaskalignerMJB4」、「MaskAligner」、「MJB4掩模對準器」、「自動光罩對準曝光機」
查看更多 離開網站MA200 Gen3 Mask Aligner
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Specially designed for high-volume production the MA200 Gen3 mask aligner is suited for the automated processing of square substrates and wafers up to 200 mm.
MA200 Gen3 掩模對準器
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SUSS MicroTec的光罩對準曝光機,是基於接近式曝光技術的。 性能與優點. 由於採用了減少衍射的光學技術,具有卓越的解析度; 使用微透鏡光學系統,實現了製程 ...
MA300 Gen3 Mask
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SUSS MicroTec's MA300 Gen3 is a highly automated mask alignment platform for 300 mm and 200 mm wafers. It is specifically designed for 3D Packaging, wafer-level ...
MA300 Gen3 掩模對準器
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MA300代表了SUSS所生產的新一世代光罩對準曝光機,其設計時即是要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。 強調. 全場域強度90mW/cm²(寬頻帶); 在300mm 上低至2.5 ...
MABA Gen4 系列掩模和鍵合對準器
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第4 代專業級MA/BA 系列係為SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置平臺,並提供包羅萬象的運用潛力。此對準器適用於150 及200 mm 以下的基板尺寸。
Manual mask aligner MJB4
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SUSS mask aligners are equipped with a WEC head system that allows reaching the parallelism between substrate and mask with a micrometric precision. Available ...
Mask Aligner
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SÜSS MicroTec 的掩模对准器系统主要用于MEMS、先进封装、三维封装、化合物半导体、功率器件、太阳能、纳米技术和晶圆片级光学系统等领域的光刻应用。 SUSS MicroTec 的掩 ...
MJB4掩模對準器
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MO Exposure Optics®是一種為SUSS光罩對準機專門設計的獨特的照明光學器件。它基於微型透鏡板,而不是宏觀的透鏡元件。通過簡單的隨插即用,可以在不同的角度設置之間快速 ...
自動光罩對準曝光機
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SUSS MicroTec的光罩與接合對準平臺,能夠對光罩到晶圓、晶圓到晶圓的操作進行高精度對準。該設備可加工任何材料種類、300 mm以下尺寸的基板和晶圓。通過多種附加功能,光 ...