SUSS Aligner：MJB4掩模對準器

MJB4掩模對準器

MOExposureOptics®是一種為SUSS光罩對準機專門設計的獨特的照明光學器件。它基於微型透鏡板，而不是宏觀的透鏡元件。通過簡單的隨插即用，可以在不同的角度設置之間快速 ...。其他文章還包含有：「MA200Gen3MaskAligner」、「MA200Gen3掩模對準器」、「MA300Gen3Mask」、「MA300Gen3掩模對準器」、「MABAGen4系列掩模和鍵合對準器」、「ManualmaskalignerMJB4」、「MaskAligner」、「MaskAligner」、「自動光罩對準曝光機」

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MA200 Gen3 Mask Aligner

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Specially designed for high-volume production the MA200 Gen3 mask aligner is suited for the automated processing of square substrates and wafers up to 200 mm.

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MA200 Gen3 掩模對準器

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SUSS MicroTec的光罩對準曝光機，是基於接近式曝光技術的。性能與優點. 由於採用了減少衍射的光學技術，具有卓越的解析度; 使用微透鏡光學系統，實現了製程 ...

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MA300 Gen3 Mask

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SUSS MicroTec's MA300 Gen3 is a highly automated mask alignment platform for 300 mm and 200 mm wafers. It is specifically designed for 3D Packaging, wafer-level ...

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MA300 Gen3 掩模對準器

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MA300代表了SUSS所生產的新一世代光罩對準曝光機，其設計時即是要滿足具有大量量產製造環境的高階晶圓廠的需求。強調. 全場域強度90mW/cm²(寬頻帶); 在300mm 上低至2.5 ...

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MABA Gen4 系列掩模和鍵合對準器

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第4 代專業級MA/BA 系列係為SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置平臺，並提供包羅萬象的運用潛力。此對準器適用於150 及200 mm 以下的基板尺寸。

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Manual mask aligner MJB4

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SUSS mask aligners are equipped with a WEC head system that allows reaching the parallelism between substrate and mask with a micrometric precision. Available ...

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Mask Aligner

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The SUSS MicroTec Mask Aligner has become synonymous with superior quality, high alignment accuracy, and sophisticated exposure optics. SUSS MicroTec offers a ...

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