deposition半導體

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沉積製程可形成半導體元件中的介電(絕緣)和金屬(導電)材料層。取決於製造的材料和結構類型，採用的沉積技術也有所不同。電化學沉積(ECD)可產生銅「佈線」(互連)，以 ...

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化學氣相沉積（英語：chemical vapor deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將 ...

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化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition). 2011/11/22. 化學氣相沉積法(Chemical ... 例如像是在半導體產業上，我們將晶圓作為基底，暴露在不同的蒸氣下，可以得到矽 ...

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例如像是在半導體產業上，我們將晶圓作為基底，暴露在不同的蒸氣下，可以得到矽、二氧化矽、氮化矽(Si3N4)，甚至是一些金屬的薄膜沉積。我們使用矽烷 ...

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這篇文章將詳細介紹製程原理、儀器設備與半導體工業上的應用。 Atomic layer deposition (ALD) has attracted a lot of attention recently for its excellent deposition.

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Deposition Technologies for Every Device. 半導體(Semiconductor). 半導體(Semiconductor). 半導體 ... 在半導體製造過程中，沉積的材料包含諸如氮化矽絕緣體、諸如銅和鎢 ...

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物理氣相沉積（英語：Physical vapor deposition，PVD）是一種工業製造上的工藝，屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料過程來沉積薄膜的技術，即 ...

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原子層沈積(Atomic Layer Deposition, ALD) 是一種可以將材料一層一層成長的薄膜製程技術，一般常見的ALD製程由四個步驟組成，以成長材料AB為例(圖一)，(a)首先將含有A成分 ...