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duv光刻機原理

「duv光刻機原理」文章包含有:「3分鐘了解光刻機」、「duv光刻机和euv光刻机区别」、「EUV光刻,最終勝出!」、「中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈!」、「同樣能造出7nm晶片,EUV光刻機對比DUV光...」、「小辭典》什麼是DUV設備?」、「極紫外光刻的發展現狀」、「極紫外光微影製程」

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3分鐘了解光刻機
3分鐘了解光刻機

https://kknews.cc

按照發展軌跡,最早的光刻機光源即為汞燈產生的紫外光源(UV)。之後行業領域內採用準分子雷射的深紫外光源(DUV),將波長進一步縮小到ArF的193 nm。由於 ...

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duv光刻机和euv光刻机区别
duv光刻机和euv光刻机区别

https://www.maskalignercn.com

DUV光刻机使用的是深紫外光源(通常波长为193纳米或248纳米),通过光学系统将光投影到硅片上,形成图形。DUV光刻机主要用于制造大多数芯片,其制程尺寸 ...

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EUV光刻,最終勝出!
EUV光刻,最終勝出!

https://www.usmartsecurities.c

光刻機的原理其實像幻燈機一樣簡單,就是把光通過帶電路圖的掩膜(Mask)投影到塗有光敏膠的晶圓上。早期60年代的光刻,掩膜版是1:1尺寸緊貼在晶圓片上,那時的晶圓也只有1 ...

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中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈!
中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈!

https://hao.cnyes.com

這是大家最熟悉的了,在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控製手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖 ...

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同樣能造出7nm晶片,EUV光刻機對比DUV光 ...
同樣能造出7nm晶片,EUV光刻機對比DUV光 ...

https://read01.com

DUV光路主要利用光的折射原理。其中,浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間,填入去離子水,使得193nm的光波等效至134nm ...

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小辭典》什麼是DUV設備?
小辭典》什麼是DUV設備?

https://ec.ltn.com.tw

微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片,又稱蝕刻機、光刻機;波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源,再來是深紫外光源(Deep ...

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極紫外光刻的發展現狀
極紫外光刻的發展現狀

https://www.digitimes.com.tw

DUV一類的雷射叫凖分子雷射(Excimer laser),基本上是受電場激發的惰性氣體與鹵族元素形成一生命期極短的二聚體(dimer,又譯凖分子),當被同時觸發 ...

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極紫外光微影製程
極紫外光微影製程

https://zh.wikipedia.org

DUV微影製程 編輯 ... 晶圓製造過程裡有一道程序是將設計好的電路圖案(Pattern)縮小轉印到晶圓上,此道製程便稱之為微影, 7奈米以前的製程使用248或193奈米波長的光做為光源 ...