duv光刻機是什麼

DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高

https://www.chinatimes.com

近日有著「浸潤式光刻之父」之稱的台積電前研發副總林本堅（Burn Lin）受訪時表示，依靠荷蘭艾斯摩（ASML）的DUV光刻機，可以繼續將製程工藝從7nm再推 ...

DUV和EUV光刻机的区别在哪

https://docs.pingcode.com

DUV光刻技术在当前芯片制造中仍然占据主导地位，适用于28nm及以上工艺节点。而EUV技术则主要用于7nm及以下工艺节点，具有更好的微缩潜力，被认为是未来 ...

DUV和EUV光刻机的区别在哪？

https://m.zhitongcaijing.com

... 光刻机的实际控制方是美国而非荷兰。 DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm，但最先进DUV的光源 ...

DUV和EUV光刻机的区别在哪？

http://www.ime.cas.cn

2002年DUV技术在干法ArF后期演化成2条主要进化方向：. 其一是用157nm的F2的准分子光源取代193nm的ArF光源。该方法较浸没式ArF更为保守， ...

中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈！

https://hao.cnyes.com

台積電不能沒有它！艾司摩爾崛起的秘密

https://www.iqvalue.com

但當時Nikon、Canon已經是光刻設備機產業的龍頭了，改用全新的工藝，那就是要先革 ... DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme ...

小辭典》什麼是DUV設備？

https://ec.ltn.com.tw

微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。最早是使用汞燈產生的紫外光源，再來是深紫外光源（Deep ...

極紫外光刻的發展現狀

https://www.digitimes.com.tw

DUV一類的雷射叫凖分子雷射（Excimer laser），基本上是受電場激發的惰性氣體與鹵族元素形成一生命期極短的二聚體（dimer，又譯凖分子），當被同時觸發 ...

極紫外光微影製程

https://zh.wikipedia.org

極紫外光微影（英語：extreme ultraviolet lithography，中國大陸稱為極紫外光刻，簡稱「EUV」或「EUVL」）又稱作超紫外線平版印刷術, 是一種使用極紫外光波長的微影 ...