duv原理
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「duv原理」文章包含有：「ASML」、「DUV与EUV***的芯片加工流程详解」、「中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈！」、「半導體用光阻劑之發展概況」、「於深紫外光範圍之薄膜與液體折射率量測」、「林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來」、「極紫外光刻的發展現狀」、「極紫外光微影製程」
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ASML
https://www.asml.com
我們的DUV深紫外光微影系統是當前半導體產業用於量產晶片的主力。ASML提供浸潤式和乾式微影解決方案，幫助晶片製造商量產各種節點和技術製程。 ASML的浸潤式 ...
DUV与EUV***的芯片加工流程详解
https://www.elecfans.com
本文从产业工程角度，重点介绍芯片制造与光刻的一些相关技术细节，也介绍SSMB、EUV、同步辐射等相关的科学原理。了解足够的工程技术细节和科学原理 ...
中國光刻機國產化真相到底如何?深度分析光刻機全球供應鏈！
https://hao.cnyes.com
目前光刻機主流是：一種浸潤式DUV，稱之為深紫外線光刻機，主要用於10-130nm光刻機。一種是EUV光刻機，也稱之為極紫外線光刻機，用於7nm及以下的芯片光刻 ...
半導體用光阻劑之發展概況
https://www.moea.gov.tw
依曝光的光源不同，光源可區分為紫外線(UV)、深紫外線(Deep UV；DUV)和超紫外線(Extreme UV；EUV)三種。和紫外線搭配的為g-line(436nm)和i-line(365nm)光 ...
於深紫外光範圍之薄膜與液體折射率量測
https://ndltd.ncl.edu.tw
本篇論文針對深紫外光波段（DUV, deep ultraviolet）進行光學折射率的量測。主要分為兩大主題：一為矽晶片上的光阻折射率、消光係數、吸收係數量測；另一個為液體的 ...
林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來
https://www.itri.org.tw
過去半導體晶片製程中，主要採用乾式曝光，以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質，把光罩上的圖形在晶圓上成像；而浸潤式微影則是以水為介質，在鏡頭和晶圓之間注入水，光的波長在 ...
極紫外光刻的發展現狀
https://www.digitimes.com.tw
DUV一類的雷射叫凖分子雷射（Excimer laser），基本上是受電場激發的惰性氣體與鹵族元素形成一生命期極短的二聚體（dimer，又譯凖分子），當被同時觸發 ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
DUV微影製程 編輯 ... 晶圓製造過程裡有一道程序是將設計好的電路圖案(Pattern)縮小轉印到晶圓上，此道製程便稱之為微影, 7奈米以前的製程使用248或193奈米波長的光做為光源 ...