ekc去光阻液
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工學院半導體材料與製程設備學程
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光阻去. 除後會有殘留光阻在表面，利用濕式清洗以去光阻劑將殘留光阻清除乾. 淨如圖 ... 離子水清洗時間接近（EKC 265 單次去離子水清洗時間26 分鐘中間區. 域11nm，邊緣 ...
去光阻液
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添鴻科技的去光阻液產品可應對半導體封裝製程與光電製程，有效去除正型光阻、負型光阻、乾膜光阻，適用於spin或wet bench製程機台。除了傳統DMSO或NMP系列去光阻液， ...
臭氧水技術在光阻去除製程之應用
http://140.112.183.23
以臭氧水. 進行晶圓表面的光阻清洗就是一個氣相-液. 相-固相並存的反應系統,欲提升異相系統. 的反應效率首先就要解決界面擴散層質傳效. 率的問題,這對晶圓清洗技術是一個新 ...
去光阻液; 蝕刻後殘餘物去除劑
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應用領域: *IC半導體製程 *LED製程 *III-V 族射頻IC製程 *先進銅製程清潔劑 *其它特殊清洗液, 清潔劑. 聯絡人：; 新竹辦事處〡許洲豪〡03-6205888 Ext.23181 ...
半导体晶圆的清洗方法
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清洗晶圆上的EKC残留液，丙酮中具有羰基，能够溶解EKC溶液中的羟胺、2-(2-氨基乙 ... 光阻水系剥离液. CN102800575B 2015-01-28 铝衬垫的晶体缺陷去除方法. TW200304586A ...
默克推出全新環保光阻去除有機溶劑
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針對微機電系統（MEMS）、汽車、電源IC（積體電路）和晶圓級封裝設備市場，AZ® 910去光阻溶劑產品系列可用於取代複雜且昂貴的以NMP成分為基礎的化學品。相 ...
乾膜光阻去除
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光阻去除後之顆粒要能被過濾器處理，而且不回沾。 5, 廢液容易處理，不會造成環保問題。 光阻剝離劑(PR Stripper)有四種主要化學成份，其個別成份之功能和注意事項如下： ...
半導體材料
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半導體材料Wahlee Product · 光阻液及顯影液 · 光阻去除劑, 乾蝕刻後殘留物去除劑 · IC製程用化學品與特殊氣體 · 半導體平整研磨液 · 石英，矽環及精細陶瓷組件 · 矽晶圓Silicon ...
TWI743079B
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提供一種光阻剝離劑組成物，即使在乾蝕刻或濕蝕刻之後也能夠快速剝離改質的光阻，而不使用對環境和人體有害的N-甲基甲醯胺(NMF)或N-甲基吡咯烷酮(NMP)作為主要溶劑， ...
A method for preparing a circuit board having a patterned ...
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微影蝕刻技術之原理即利用對輻射光線(紫外線)敏感之聚合物(或稱光阻(photo-resist))之受曝照與否，來定義該光阻在顯影液(developer)中是否被蝕除，而最終留下與遮掩罩幕(即 ...