ocd半導體
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TWI631314B
https://patents.google.com
本文中描述利用光學臨界尺寸(OCD)計量之結構分析用光學參數模型之最佳化方法。在以下描述中，闡述眾多特定細節(諸如，特定半導體結構之實例)，以便提供對本發明之實施例的 ...
半导体行业的光谱解决方案
https://www.zeiss.com.cn
光学散射测量或光学关键尺寸（OCD）是半导体生产过程控制的常用在线计量方法。和CD-SEM等成像技术一样，OCD也已发展成为一种快速、可靠且无损的计量方法，可以提供有关 ...
半导体量测检测包括什么？
https://zhuanlan.zhihu.com
半导体量测检测包括什么？ · 膜厚测量THK（Thickness），光学方法量测或半透明薄膜。 · 光学方法测关键尺寸（OCD，Optical Critical Dimension），原理同THK，但加了一套立体 ...
半導體2奈米GAA製程前段X光量測技術
https://www.itri.org.tw
... OCD）則面臨解析度極限與靈敏度不足的挑戰。工研院發展新一代「X 光量測技術」，以滿足環繞式閘極（Gate All-Around；GAA）先進製程之CD 量測。 應用與效益. 由於X 光可 ...
多角度分光光譜臨界尺寸測量儀
https://www.quatek.com.tw
在線咨詢. 光學臨界尺寸（OCD）和高級膜分析計量. FilmTek TM CD ... FilmTek TM CD採用專利的多模式測量技術來滿足與開發和生產中最複雜的半導體設計功能相關的挑戰性要求。
晶圓量測與製程控制技術夯先進製程良率再添進程
https://www.semi.org
關於SEMI SEMI國際半導體產業協會致力於推動全球半導體供應鏈發展. 關於 ... OCD 技術也不斷與時俱進，在量測敏感度、精準度方面屢有突破。但由於現在的 ...
橢圓偏振技術
https://zh.wikipedia.org
它已被應用在許多不同的領域，從基礎研究到工業應用，如半導體物理研究、微電子學和生物學。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質測量技術，且具有非破壞性和非接觸之優點 ...
第一节：（4）逻辑工艺线上量测简介原创
https://blog.csdn.net
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect ...
針對7nm CMOS邏輯產品線上控制的光學量測策略
https://www.edntaiwan.com
表2顯示量測框上的傳統1D薄膜、FoG和OCD在圖案化目標上採用傳統散射測量 ... 對於過去的半導體技術節點，出於實用性的目的，業界理所當然地認為晶片內 ...
高深寬比微結構之創新性具高信噪比光學關鍵尺寸量測技術
http://www.hiwin.org.tw
近年來半導體封裝技術的立體化與微型化已成為延續摩爾定律的重要動力,以. 因應對 ... (OCD) metrology of HAR structures. The proposed system enables high spatial ...