光罩半導體

IC光罩應用介紹及其未來發展

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半導體IC. IC光罩應用介紹及其. 未來發展. 摘要. 光罩乃IC製程中重要的一環，本文主要敍述IC光罩在IC工業的角色、. IC光罩製作流程及目前應用現況與未來的發展，.

〈財經週報

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半導體業供應鏈持續進行庫存調整，但因IC設計公司開發新產品腳步未見停歇，也有因應客戶需求或價格考量轉廠投產不同晶圓代工廠，帶動光罩開案案量不 ...

光罩

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光罩​​是一片熔融矽石（石英）板，通常為6平方英寸（約152平方毫米），其上覆蓋著在微影製程中由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案，被投影到晶圓上，以定義單層積體 ...

光罩

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光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。

光罩是什麼技術？為何能在晶片製程中佔據重要地位？

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半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩 ...

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光罩是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所 ...

台灣光罩股份有限公司

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承續44年光罩之研發及製造經驗，台灣光罩與IC工業共同成長，一起建立實力堅強的完整產業體系。 目前已採用OPC及PSM技術大量生產0.18、0.15、0.11及0.09微米光罩，展現台灣 ...

微影製程再進化！複雜電路的祕密

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IC的製程簡單來說，是在矽晶圓上製造出一個電路構造，其中包括許多半導體元件， ... 微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。