光阻塗佈機英文
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6 Photolithography
http://140.117.153.69
列出組成光阻(photoresist)的四個成分. •敘述正光阻(+PR)和負光阻(−PR)的差異. •敘述微影製程(photolithography)的順序. •列出四種對準(alignment)和曝光(exposure) ...
Ch 6
http://homepage.ntu.edu.tw
▫ 底漆層及光阻塗佈. ▫ 軟烘烤. ▫ 對準及曝光. ▫ 顯影. ▫ 圖案檢視. ▫ 硬烘烤. 光 ... 自旋塗佈機. 顯影劑. 步進機. 晶圓移動. 方向. 晶圓. 中心軌道機器. 18. 經透鏡 ...
光學微影系統
https://khvic.nsysu.edu.tw
中文名稱：光學微影系統(含光罩對準機Mask Aligner、光阻旋轉塗佈機spin-coater、烤盤hot-plate) · 英文名稱：MASK Aligner and Exposure System.
光阻塗佈機(Spin Coater)
https://www.rmt.com.tw
旋轉塗佈法(Spin Coating)是最廣為用來上光阻的方法，通常的做法是將定量的阻劑塗佈在晶圓中心，在藉由不同階段的轉速和時間控制，使阻劑均勻塗佈在晶圓 ...
光阻塗佈機(Spin Coater)
https://nanofc.web.nycu.edu.tw
厚膜光阻塗佈機(Thick P.R. Spinner)
https://nanofc.web.nycu.edu.tw
儀器資訊: · 1.廠牌型號: 德國Karl Suss RC-8 · 2.購置年限:1998年5月26日 · 3.放置地點: 博愛校區奈米中心2樓218室 (TEL:55679) · 4.功能:厚膜光阻之塗佈 · 5.重要規格: · (1).
國立中興大學
http://www.ee.nchu.edu.tw
整個微影的製程有塗底(Priming)(如HMDS)、上光阻(Coating Photoresist)、軟烤(Soft Bake)、曝光(Exposure)、顯影(Development)和硬烤(Hard Bake)等步驟。 塗底：上光阻 ...
工學院半導體材料與製程設備學程
https://ir.nctu.edu.tw
曝光機的原理和照相機基本上是類似的，完成光阻塗佈的晶圓. 就如同底片一樣，而光罩就是我們要照的影像，只是曝光機的解析. 度比照相機好很多而且也複雜很多。曝光機可分成 ...
第一章緒論
https://ir.nctu.edu.tw
製程用的設備主要為光. 阻塗佈與顯影機（Track）。以及曝光機（Scanner），主要的材料為光阻和顯影劑。微影步驟. 包含去水烘烤、黏著層 ...