光阻成分
「光阻成分」熱門搜尋資訊
黃光微影
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正光阻的成分有三種：溶劑、樹脂、光活性化合物。 溶劑可讓光阻保持容液狀態使光阻可以旋舖方式塗佈在基板上。 樹脂提供光阻的粘著性、抗蝕刻能力，並可被鹼性顯影液分解。 光活性化合物對特殊光線具有靈敏性，又稱為感應劑。
光阻劑
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光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...
半導體光阻材料技術
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G-line/I-line光阻劑的主要組成為酚醛樹脂(Novolac Resin)與感光物重氮萘(Diazo-naphtho-quinon; DNQ)。酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當 ...
光阻劑是什麼？光阻劑和去光阻劑成分、差異
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光阻劑（也稱為光阻），主要應用於電鍍或蝕刻等工業製程中，光阻劑一般為高分子、溶劑、光感劑等成分組成的光敏材料，並透過光反應刻上結構圖形，是影響半導體製程生產效率 ...
光阻劑
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光阻成分. • 高分子. • 溶劑. 1. 溶解高分子. 2. 允許光阻藉由旋轉塗佈而成. 薄層以進行應用. • 感光劑. 1. 決定曝光時間及強度. 2. 添加劑. Page 3. 5. 負光阻. • 大部分 ...
光阻劑
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光阻劑應用的配方成分20 多年以來，SACHEM 一直是用於電子應用的顯影劑電子配方成分的領先供應商。大部分顯影劑已使用四甲基氫氧化銨(TMAH) 和四丁基氫氧化銨(TBAH) ...
半導體光阻剝離PR Strip 製程介紹
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光阻材料是有機物一般以碳、氫、氧化合物為主體，一般都用硫酸根或氫氧根離子破壞碳氫氧鍵，達到光阻去除的目的，傳統光阻剝離劑多是採用DMSO (二甲基亞碸) ...
半導體用光阻劑之發展概況
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光阻劑(Photoresist)是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，根據曝光顯影後的變化，分為正型(Positive type)光阻劑和負型(Negative ...
彩色光阻的機制
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彩色光阻的成分與製造程序 ... 彩色光阻是在色材裡添加樹脂與溶劑等製成色膏，再添加光聚合引發劑與各種添加劑，幫助由紫外線引起的聚合反應。