光阻液
「光阻液」熱門搜尋資訊
【個股產業資訊】台灣光阻液代理龍頭
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所提供的產品屬於半導體上游材料料，主要代理日本信越的光阻液、信越化學的空白矽晶圓與Fujimi 的研磨液，半導體材料營收比重超過80%，其營運發展與半導體 ...
光阻劑
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• 光分解感光劑且切斷交連，在鹼性液中樹. 脂溶解性變更佳. • 較高之解析度( < 3 μm). • IC製程常用. Page 4. 7. 光阻之必要條件. • 高解析度. – 較薄的光阻薄膜擁有較佳的 ...
光阻劑
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光阻劑（英語：photoresist），亦稱為光阻或光阻劑，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射後，溶解度發生變化的耐蝕刻薄膜材料，是微影製程中 ...
光阻劑是什麼？光阻劑和去光阻劑成分、差異
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光阻劑（也稱為光阻），主要應用於電鍍或蝕刻等工業製程中，光阻劑一般為高分子、溶劑、光感劑等成分組成的光敏材料，並透過光反應刻上結構圖形，是影響半導體製程生產效率 ...
光阻劑是什麼？本篇報給你知！
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光阻，亦稱為光阻劑，是一個用在許多工業制程上的光敏材料。像是光刻技術，可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。 ... 正向光阻是光阻的一種，其照到光的部分會溶於光阻顯影 ...
半導體光阻材料技術
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酚醛樹脂在鹼性顯影劑水溶液中相對容易溶解，但當添加DNQ時，由於DNQ分子的疏水性及其與樹脂間的氫鍵作用力，會使酚醛樹脂+DNQ的光阻組成，在顯影液中 ...
半導體用光阻劑之發展概況
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光阻劑分為正型光阻及負型光阻，因感光材料特性的關係，顯影結果也會有所差異。正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域，在UV照射後，可被顯影液輕易的帶離 ...
半導體黃光製程有害物暴露及異味調查研究 ...
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... 光阻覆蓋顯影機，所使用的化學物質有. 光阻稀釋劑(EBR)，主要成分為單甲基醚丙二醇醋酸酯(PGMEA)與單甲基醚丙. 二醇(PGME)；光阻液所含有主要溶劑成分為乳酸乙酯(Ethyl ...
安全資料表
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化學品名稱：光阻稀釋劑（OK-73）. 其他名稱：稀釋液(光刻顯像稀釋劑)、EBR7030、PP-73、PM Thinner. 建議用途及限制使用：光阻稀釋劑、光阻清潔劑. 製造者、輸入者或供應 ...