半導體光罩英文

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光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光 ... 倍縮光罩上的圖案轉到光阻上. ▫ 三個基本步驟: 顯影, 洗滌, 旋乾. 正光阻. 負 ...

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光掩模（英语：Reticle, Mask）：在制作集成电路的过程中，利用光刻蚀技术，在半导体上形成图型，为将图型复制于晶圆上，必须透过光掩模作用的原理。比如冲洗照片 ...

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光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片 ...

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光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时， ...

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【光罩】的英文單字、英文翻譯及用法：photomask光掩膜；。漢英詞典提供【光罩】的詳盡英文翻譯、用法、例句等.

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作者: 吳政三. 作者(英文):, Wu, Cheng-San. 論文名稱(中文):, 發展下一世代環保微影光罩結構材料. 論文名稱(英文):, Development of green material for mask of next ...