半導體常用氣體
「半導體常用氣體」熱門搜尋資訊
半导体常用气体介绍
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联系方式 · 1、硅烷（SiH4）：有毒。 · 2、锗烷（GeH4）：剧毒。 · 3、磷烷（PH3）：剧毒。 · 4、砷烷（AsH3）：剧毒。 · 5、氢化锑（SbH3）：剧毒。 · 6、乙硼烷（B2H6） ...
半導體廠的各製程所需使用的特氣
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半導體材料
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IC製程用化學品與特殊氣體 ; Wafer/IC/LCD Process Chemical(晶圓/半導體/液晶製程用化學品) (H2SO4,H2O2, IPA, NH4OH…) ; CVD Precursor(化學氣相沉積材料)
半導體特殊氣體
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六氟化硫是常用的致冷劑及輸配電設備的絕緣與防電弧氣體，在半導體製程中，是用於蝕刻的重要氣體。 在液晶顯示器的製造上是主要的清潔氣體作為使用. image003.png, NF3 ...
各種常用氣體之應用範圍
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各種常用氣體之應用範圍 ... 電子工業：半導體製造通訊工業：光纖製造醫藥工業：磁振造影(MRI)保冷、核磁共振(NMR)保冷其他：管線試漏、潛水、氣球、焊接保護, etc.
本文將論述的重點放在氣瓶櫃 架、閥箱與管路的設計上， ...
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#f#圖一：某微機電半導體廠廠務各系統建置分攤比例 #P#特氣中央供應系統氣體特性特殊氣體的種類一般可分為腐蝕性、毒性、可燃性、助燃性、惰性等，一般常用的半導體氣體 ...
氣體供應系統Gas Distribution System
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氣體的使用在半導體製程中一直扮演著重要的角色，特別是半導體製程目前已被廣泛的應用於各項產業。氣體一般區分為大宗氣體Bulk Gas，例如N2、H2、O2、Ar 等使用量較大 ...
特殊氣體、雷射氣體、工業氣體、醫療氣體、高壓氣體設備及容器
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而像SiH4、B2H6、PH3這些則屬於自燃性氣體(Pyropholic)，即使是在很低的濃度下，一接觸到大氣，立刻會產生燃燒現象。】 半導體製程使用之特殊氣體. 製程名稱. 使用氣體.
電子氣體
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在電子半導體生產行業中 氣體供應劃分成常用氣體和特殊氣體。 常用氣體指： N2、H2、O2、Ar、He..等。 特殊氣體指： 半導體生產環節中，比如延伸、離子注進、摻和、 ...