半導體微影製程

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http://homepage.ntu.edu.tw

第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗佈在 ...

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本發明係關於一種用於半導體製程的微影製程，尤其是關於一種二次曝光的方法，其可延長微影製程中光源的壽命，但不影響電路的臨界尺度(critical dimension,CD)。

https://www.moea.gov.tw

微影製程的目的是為了在晶圓上製作圖案，隨著半導體線寬愈做愈小，電晶體密度愈來愈高，從奈米進入埃米節點的世代，挑戰著曝光設備的極限，也造就ASML ...

https://zh.wikipedia.org

微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

https://scitechvista.nat.gov.t

IC的製程簡單來說，是在矽晶圓上製造出一個電路構造，其中包括許多半導體元件，以及彼此連接的金屬線等。這個製造過程極其複雜，因為我們必須在晶圓上放上各式各樣的 ...

https://www.thenewslens.com

半導體晶片的製造過程，就是不斷重複進行這種曝光顯影製程。微影製程依據在曝光過程中，用來形成圖案的的光源種類，可分成光學微影（optical）、聚焦離子 ...

https://ee.ntu.edu.tw

[5] 而半導體. 製程中的微影（lithography）技術可說是整個半導體工業相當關鍵的製程，因為目前花費在微影製程的. 經費往往佔整個元件製作絕大部份的成本，而且這個比例 ...

http://mems.mt.ntnu.edu.tw

正、負光阻微影製程示意圖. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -10-. 光罩的設計技巧. ○光罩繪製是微影製程 ... 交大半導體技術中心. 毫微米元件實驗室. 台灣 ...