旋轉塗佈不均勻
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查看更多COATING製程塗佈鍍膜不均勻?
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旋轉塗佈屬於濕式鍍膜,其基材以真空接吸方式,於物件中心落下塗佈液體,利用旋轉離心力的方式平均散布液體於物件上並快速甩出多於液體並令其形成一層薄膜。
[問題] spin coater塗佈約20nm光阻的均勻性
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想請教各位本身對這方面的知識不太足,網路上查到塗佈光阻的厚度很多事micro等級的厚度而老師要我們嘗試看看20nm的光阻厚度,推測可能因為光阻塗佈完 ...
以二氧化鈦為基礎的薄膜(下)
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旋轉塗佈是一種沉積薄膜在平坦基底上的方法。將少量溶膠或凝膠塗佈在基底的中心,接著將基材在高速旋轉下利用離心力散布塗料,繼續轉動使流體旋轉至基 ...
大面積基板塗佈製程解析
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定位點來決定,不像旋轉塗佈要用EBR裝. 置來洗邊。雖是如此,光阻在乾燥過. 程 ... 響塗佈厚度均勻性的重要. 因素。若Slit Die起始加速. 太快或停止減速太慢,都. 會造成前後 ...
旋轉塗佈光阻液厚度及均勻度實驗分析
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... 不會對旋轉塗佈薄膜的厚度及均勻度有所影響;光阻液的黏度與溶劑的揮發性都會影響到旋轉塗佈薄膜的厚度,黏度越大薄膜會越厚,揮發性越大薄膜會越厚;旋轉時間增加雖然 ...
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
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本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出,但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象,製程中採用稀釋 ...
旋轉塗佈技術簡介
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優點. - 操作簡單,產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%),大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。
旋轉塗佈製程最適化研究
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旋轉塗佈技術現正廣泛的運用於半導體製程中的薄膜製造,雖然其所製作的薄膜均勻度佳,卻會在基材板邊產生突起物,造成基材可用區域減小。為改善此現象,本文根據商用 ...
預塗表面對旋轉塗佈的影響
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... 塗佈表面不均勻;如果晶圓表面預塗一層流體,在晶圓的塗佈過程中,會產生較少的不穩定手指狀,使得工作流體保留在連續薄膜中的量較大,以利工作流體順利塗滿晶圓,並且 ...