旋轉塗佈光阻液厚度及均勻度實驗分析
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旋轉塗佈光阻液厚度及均勻度實驗分析
https://ndltd.ncl.edu.tw
在積體電路的製程中，利用光阻覆蓋機產生旋轉塗佈後的光阻液薄膜，決定了晶片電路曝光及顯影品質的優劣，也關係到整個積體電路的成敗。在晶圓表面上所形成的薄膜（厚度 ...
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
https://www.airitilibrary.com
本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出，但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象，製程中採用稀釋 ...
旋轉塗佈技術簡介
http://synrex.com
優點. - 操作簡單，產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%)，大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。
旋轉塗佈薄膜的流體力學與質量傳輸數值研究
https://tdr.lib.ntu.edu.tw
旋轉塗佈技術所產生的薄膜厚度和均勻性等特性，取決於旋塗液. 的流體性質，如流體黏度、質傳速率、固體內含量和表面張力等；以及所選擇之. 旋塗參數，如轉速、加速度和氣體 ...
第一章緒論
https://ir.lib.nycu.edu.tw
製程步驟為Track 內的機械手臂將晶片傳送至光阻塗佈槽內的旋轉吸盤. （Spin Chuck）上，並將晶片牢牢的吸在吸盤上，防止晶片旋轉時掉落，接著在晶片表面. 噴灑溶劑預濕， ...
國家科學及技術委員會補助專題研究計畫報告
https://nckur.lib.ncku.edu.tw
置於旋轉塗佈機上固定，使用微量滴管滴上用環戊酮稀釋過的SU-8 3050，SU-8 ... 光阻塗佈均勻，後將塗佈好的樣品置於加熱板上以95 ℃軟烤10 min 使溶劑揮. 發，後將 ...
義守大學工業工程與管理學系
http://ir.lib.isu.edu.tw
光阻旋轉塗佈有兩個目標，是光阻可均勻地塗佈在晶圓上及晶圓至晶圓間有重複的. 光阻厚度。整片晶圓上光阻的薄膜厚度的變化應低於0.3μm。在多片晶圓中，晶圓至晶.
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
https://ndltd.ncl.edu.tw
論文摘要本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出，但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象，製程中採用稀釋液 ...
4.1 厚膜光阻製程
https://api.lib.ntnu.edu.tw
探討其發生的原因，由於本實驗. 中所用的光阻旋塗機若將第一段轉速設為500 rpm，第二段轉速設為3000 rpm，. 則其加速度高達1200 rpm/sec 以上，因此膜厚不均的現象可能為 ...
大面積基板塗佈製程解析
https://www.materialsnet.com.t
旋轉塗佈是流體離心力與黏滯力. 平衡的結果，光阻在基板上的厚度依黏. 度、轉速及旋轉時間而定。若光阻是牛. 頓流體，則光阻厚度與所在位置無關，. 即從中心到邊緣厚度都 ...