黃光製程簡介

光罩( Photomasking )製程簡介

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光阻劑是一種含感光懸浮物質的. 液態化學品，它對水銀電弧燈所. 產生的紫藍色光線具有感光作用. 它對紅色及黃色光線不具有感光. 作用，因此光罩室使用黃光照明. 設備。

微影

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微影製程（英語：photolithography 或optical lithography，中國大陸稱為光刻工藝）是半導體元件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何 ...

微影製程再進化！複雜電路的祕密

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IC的製程簡單來說，是在矽晶圓上製造出一個電路構造，其中包括許多半導體元件，以及彼此連接的金屬線等。這個製造過程極其複雜，因為我們必須在晶圓上放上各式各樣的 ...

為何半導體無塵室都採用黃光？原來影響晶片關鍵步驟

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大家有沒有想過，不管是台積電還是三星的晶圓廠，為何內部無塵室大都使用黃光？而不是白光或其他顏色的光？原來這跟半導體製程的關鍵步驟有關。

米雕? 光雕? 來、來、來，簡單玩光學微影曝光!

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簡言之，我們經由簡易的微影製程將光罩上所有圖形轉移到晶圓上了。我們是在暗室中完成實驗過程，實際的微影製程是在不易對阻劑感光又能清楚操作的黃光室中 ...

黃光微影製程技術

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正、負光阻微影製程示意圖. 台灣師範大學機電科技學系. C. R. Yang, NTNU MT. -10-. 光罩的設計技巧. ○光罩繪製是微影製程最基本步驟，透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移.

黃光製程實驗室

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本實驗室將進行之研究方向是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到所在基板上。

黃光製程工程師

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