Canon NIL lithography:挑戰ASML?Canon 開賣NIL 微影設備,可生產2 奈米晶片

挑戰ASML?Canon 開賣NIL 微影設備,可生產2 奈米晶片

挑戰ASML?Canon 開賣NIL 微影設備,可生產2 奈米晶片

2023年10月16日—挑戰ASML,日本半導體設備大廠Canon宣布開賣採用「奈米壓印(Nano-imprintLithography,NIL)」技術的微影設備,可用來生產5奈米(nm)晶片, ...。其他文章還包含有:「NanoimprintLithography」、「HowwillCanon'sreleaseoflithographicprintersin2024...」、「NanoimprintLithography」、「Nanoimprintlithographysemiconductormanufacturing...」、「日本佳能表示自家的半導體NIL奈米壓印裝置也能造2nm...

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