半導體製程為何需要真空：真空技術與應用
適用於半導體製造的真空解決方案
https://www.atlascopco.com
由於半導體晶片包含多種元件，因此對於超精密半導體製造的需求至關重要，而真空在生產的每一步中都很重要。 真空度介於100 到400 mbar abs. 之間，可確保每個設備均保持在正確水平，並確保不會因回流造成污染。
半導體真空幫浦轉子之設計與模型製作
https://web.tnu.edu.tw
真空幫浦在工業上的應用有愈來愈廣的趨勢，如半導體製程中的薄膜沉積或. 乾蝕刻等，均需要在低壓、真空的環境下操作，由於半導體製程技術不斷往更小. 線寬與更高密度的方向 ...
戰將出列！台積電魔鬼訓練下熬出頭的最強隊友曝光
https://www.businesstoday.com.
真空設備是半導體製造重要環節，因為晶圓需要在真空環境下，透過釋放出各式各樣的氣體，進行蝕刻、鍍膜。「一座月產能四萬片規模的晶圓廠，至少需要1500台 ...
第一節常用的真空製程
http://www.phys.nthu.edu.tw
）元件等多需要鍍膜製程因為要 electron）元件，或奈米（nano）元件等多需要鍍膜製程，因為要. 達到符合高科技要求的品質，真空鍍膜幾乎為唯一的方法，故真空鍍. 膜技術 ...
真空技術的發展與應用
https://erac.ntut.edu.tw
真空技術是現代科技的基石，從民生相關的食品包裝、眼鏡鍍. 膜、電視映像管，到高科技產業中的光電元件與半導體製程、尖端的 ... 目前高科技工業的需求，不少的真空設備和 ...
由真空科技觀點看半導體製造設備之發展
https://tpl.ncl.edu.tw
半導體製造設備若要被使用者採用,必. 需在設計時即考量用戶之現在及未來之需求,. 亦即所謂Design In之觀念,半導體製造設備為. 精密,構造複雜之設備,修改不易,常耳聞設. 備 ...
真空教室
https://www.ulvac.com.tw
為了防氧化，必須將不想被氧氣氧化的物質作遮蔽，而在密封空間抽真空後，原本空間內的氧氣會排出外部，將氧氣隔絕在空間外部．而在真空下，因為氧氣量減少的緣故，可以抑制 ...
半導體Oxide etching 製程介紹
https://www.scientech.com.tw
1. 消耗基材的熱氧化層: 將Si Wafer於高函氧環境下加熱，讓表面矽氧化而形成一層SiO2。 2. 非消耗基材的氧化沉積層: 藉由氣體在真空環境下反應、沉積在Si ...
真空的應用- 物理專文
https://pb.ps-taiwan.org
最近在課堂上問學生:為什麼我們需要創造一個真空的環境?得到的回應 ... 很多半導體製程所需的真空度即在此氣壓範圍內。利用到此特性的應用所需的 ...