靶材功能：技術與能力
技術與能力
靶材
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靶材(target)，是對物理氣相沉積技術應用的鍍膜材料。 在沉積過程中，膜材要受到電子束、離子束或放電離子的衝擊，就像被射擊的靶子一樣。 而濺射靶材，是靶材的一種，指應用在真空濺射去鍍膜的靶材。 靶材種類有分純金屬、合金、化合物。
半導體晶圓用濺鍍靶材
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PVD是利用電弧或電漿的物理能量轟擊位於陰極靶材的表面，使得靶材的原子獲得動能溢出並附著欲鍍膜的基板上，因此靶材又分為電弧靶與濺鍍靶(電漿靶)， ...
濺鍍靶材
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濺射鍍膜系統是在高真空環境中充入工作氣體(一般為氬氣)，藉由兩個相對應的金屬板(陽極板和陰極板)，施加電壓產生電漿，電漿中的正離子被陰極板的負電壓吸引加速，具有高 ...
濺鍍靶材
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濺鍍靶材 · 光洋使用超過50種化學元素，具備3000種以上合金以及30種以上金屬氧化物濺鍍靶材產品製作經驗。 · 可提供儲存媒體產業、半導體產業、顯示器產業等領域之濺鍍靶材。
被動元件光學元件半導體鍍膜用濺鍍靶材
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被動元件/光學元件/半導體鍍膜用濺鍍靶材 · 電阻層(及端電極)：Ni-Cr alloy靶、Cr靶、Ni靶、Ta靶、Cu靶與W-Si靶等。 · 可配合客製開發各種二元、三元及四元合金，包括Ni-Cr靶 ...
台灣博曼有限公司
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是現代薄膜科技的關鍵材料；主要使用在微電子，顯示器，記憶體、ITO導電玻璃、CD-R、被動元件、石英振蕩器以及光學鍍膜等產業上。靶材在高真空、高電壓的 ...
【XRF】XRF在濺鍍靶材上的應用
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濺鍍靶材（sputter target）是一種具有高附加價值的鍍膜材料，是現代薄膜科技的關鍵材料；主要使用在微電子，顯示器，記憶體、ITO導電玻璃、CD-R、被動元件、石英振蕩 ...
PVD 靶材
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電弧激發的優點是鍍率快, 原子離化率高, 離子能量高, 因此能與氣體直接反應, 形成氮化物(Nitride), 碳化物(Carbide), 氮碳化物(Carbon Nitrdie) 等與金屬基材結合良好的膜 ...
熔融法製造的濺鍍靶材和真空蒸鍍材
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特色 · 無針孔、氧化物、氣體等缺陷的靶材 · 藉由超音波探傷檢查背板間接合狀態以確保品質 · 貴金屬高純度蒸鍍材可加工成顆粒狀、塊狀、棒狀、線狀等形狀 · 自設備、治具洗淨中 ...