n2 purge原理：在機械式pump中使用的N2 purge N2 ballast的設計目的
在機械式pump中使用的N2 purge N2 ballast的設計目的
N2 Purge 吹淨系統
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可靠的晶圓保護：N2 Purge 吹淨系統藉由壓電閥達成精確的氮氣流量控制，可防止晶圓在輸送和儲存中受到氧化和污染的影響。 並且，與電磁閥相比，具壓電技術的比例閥只需微小能耗即可保持啟動狀態，因此不存在「發熱問題」，使用壽命較長。 在能源效益方面，壓電閥的能耗最多可減少95%。
LCS 與N2P機台整合
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N2 Purge(N2P)設備是一種運用在半導廠內的設備機台，FOUP載具填充惰性氣體（氮氣N2）以降低晶圓氧化及保持乾燥狀態穩定FOUP內環境。 盟立N2 FOUP Stocker系統整合N2P ...
在FOUP卸載模塊應用質量流量控制器進行N2 Purge
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質量流量控制器在該製程中的主要功能是監測和控制超高純度(UHP) N2 (A)或清潔乾燥空氣吹掃(CDA)(B)。在較早的晶圓廠中清潔乾燥空氣吹掃（B）更為常用，而新工廠使用UHP N2 ...
N2 Purge Function
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高濃度沖吹(O2<100ppm)可在2分鐘以內可達到高速。 · 次世代半導體的高潔淨度，當開關內扉時採用非接觸密封結構(迷宮式或空氣密封)可抑制Foup內部微塵或使用RORZE自吹板來 ...
原子層沉積系統原理及其應用
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並藉由基材表面飽和化學吸附，一次只吸附一層前. 驅物，過多的前驅物及副產物將由鈍氣Ar 或N2 沖. 洗(purge) 帶走，以達自我限制。 ... 2. 鈍氣Ar 或N2 注入，沖洗帶走過多的 ...
垂直爐管技術資料
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N2 purge 能引入重覆循環的空氣，在WIP、Robot 和Reactor 模組。 N2 的高流量快速地減少含氧量，因此減少晶片表面的氧化。 O2 分析器安裝在各模組 ...
第二章研究方法與流程2.1 製程最佳化參數調整研究
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spectrometers)偵測原理是利用氣體分子吸收紅外光區特定波長的能量來改變 ... NF3、SF6…)經機台後方的dry pump 抽氣並以N2 purge 後進入製程尾氣處理設. 備Local ...
如何決定氮氣的純度
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脫附--- 系統降壓後，以一部份被分離成份之高純度氣體來持續沖洗( purge ) 吸附床，將殘流之脫附氣體成份排出，以保持脫附氣體成份在系統內之低濃度，以 ...