乾 蝕刻設備：等離子乾蝕刻
等離子乾蝕刻
Etch
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蝕刻製程是指介電質蝕刻或導體蝕刻，用以指明從晶圓上移除的薄膜材料類型。應用材料公司的蝕刻創新技術可滿足挑戰性持續提高的製程要求轉折點(例如: 3D NAND、EUV 圖案化和 ...
LCD面板乾蝕刻設備
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INVENIA LCD面板蝕刻設備適合於各式電漿產生模式： ECCP、 PE/RIE/Dual、ICP...等電漿模式， 各式製程應用包含：a-Si、 LTPS、 Oxide...等。
「乾蝕刻設備」找工作職缺
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2024/8/20－249 個工作機會｜蝕刻設備工程師【宏捷科技股份有限公司】、半導體蝕刻設備工程師(南科)【崇越科技股份有限公司】、設備技術員_蝕刻工程部(新竹廠)【盧森堡 ...
乾蝕刻製程技術
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反應式離子乾蝕刻 機台: ULVC 3000 乾蝕刻機. Gas system: SF6, CF4 製程: • Silicon oxide etch • Silicon nitride etch • Polymer discumm.
晶圓製程中的乾蝕刻與濕蝕刻是什麼?
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利用化學反應將薄膜予以加工，使獲得特定形狀的作業稱為蝕刻。蝕刻可分為乾式蝕刻與濕式蝕刻兩種。 最常使用的乾式蝕刻為平行板反應性離子蝕刻。
矽碁科技股份有限公司
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乾蝕刻又被稱為等離子乾蝕刻，是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於激發離子與材料的碰撞而發生的，無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。它 ...
辛耘知識分享家
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乾蝕刻（Dry etching）, 濕蝕刻（Wet etching） ; 處理方式, 通常在真空或低壓條件下進行，需要特殊的乾蝕刻設備。 在常壓下進行，不需要高壓設備，但要 ...
電漿乾蝕刻技術設備
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電漿乾蝕刻技術設備. 廠商名稱：友威科技股份有限公司. →產品說明 •水平式電漿蝕刻設備 •乾式電漿蝕刻 •電漿減薄技術 •電漿除膠渣技術 •電漿除殘膠技術