磁控濺鍍原理：技術與能力
技術與能力
張純志副教授
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磁控濺鍍(Magnetron Sputtering Deposition). 在濺鍍系統中加一磁場，則電子將會沿磁力線前進，因此可以增加電子移動路徑長度，使離. 子化機率提高，增加濺鍍速率。 而因 ...
淺談磁控濺鍍
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磁控濺鍍的製程,由於成膜速率快,若不加基板偏. 壓的場合,基板溫度不高,成膜附著性亦佳,且可配合. 反應性氣體作濺鍍,故成膜種類範圍廣,其設備自實驗. 室型至工業用大型,均被 ...
濺鍍(Sputtering)原理
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電漿的產生是在真空下，藉由施加高偏壓於金屬板，此為陰極，而相對此電極包括桶身皆為陽極，通入的惰性氣體如Ar、N2、O2…等受到高的電壓差下，使得外層電子受到高的能量而 ...
濺鍍原理
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其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材表面，以能量轉移方式，將靶材原子擊出 ...
濺鍍技術原理PVD 成膜機制說明
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一額外磁場，促使電子運動軌跡沿磁力線方向以螺. 旋狀路徑迴旋前進，並將電子束縛於靶面特定環形. 區域中，藉以增加電子與氬氣分子碰撞之機率。 ○ 磁控濺射之目的旨在利用 ...
直流磁控濺鍍
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直流磁控濺鍍. 與直流濺鍍之原理、概念相同，為了提高直流濺鍍的沉積率，另外於靶材表面外加磁場如下圖，使高能量離子撞擊待鍍靶材後，產生的二次電子拘束於靶材附近， ...
磁控濺射
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磁控濺射或磁控濺射法、磁控濺射技術（英語：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場，使得二 ...
磁控濺鍍濺鍍沉積為一種物理氣相沉積方法，通過從靶材 ...
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濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中，大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材，並將基板以適當的 ...
第二章文獻回顧2
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圖2-3 磁控濺鍍原理. 2-1-3 反應性濺鍍. 薄膜沉積過程中，若僅使用氬氣等非反應惰性氣體作為入射離子源，. 亦所發射的非反應性粒子只會負責將靶原子濺射出，而沉積至基材上 ...