SUSS MA8:MA8 Gen5 Mask Aligner
MA8 Gen5 Mask Aligner
TheMA8Gen5offersanenhancedergonomicanduser-friendlydesign,costefficiencyandareducedfootprint,andistheperfecttoolforuseinresearchand ...。其他文章還包含有:「KARLSUSSMICROTECMA8BA8Gen2光罩對準曝光...」、「KARLSUSSMA8MaskAlignerUsersManual」、「MA8Gen5掩模对准机」、「MA8Gen5掩模對準器」、「MABAGen4系列掩模和鍵合對準器」、「SUSSMA8MaskAligner」、「SUSSMA8双面接触式光刻机」、「曝光機(MA8BA8)」
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KARL SUSS/MICROTEC MA 8/BA 8 Gen 2是一種半自動掩模對準器,能夠以亞微米精度精確對準光掩模和晶圓基板,用於小規模的半導體製造。它具有可調的特點和先進的溫度控制 ...
KARL SUSS MA8 Mask Aligner Users Manual
https://www.nist.gov
OVERVIEW: • UV broadband (250nm-450nm), I-line (365nm) and G-line (436nm) wavelength available. Contact super-use for installing I-line or G-line filters.
MA8 Gen5 掩模对准机
https://www.suss.com
用于研究、中等规模生产到量产的紧凑型对准机平台. MA8 Gen5代表了SUSS MicroTec最新一代半自动的掩模和键合对准机。新平台为标准、先进和高端的工艺引入了改进的压印 ...
MA8 Gen5 掩模對準器
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用於研究和中大規模生產的緊湊型對準器平台. MA8 Gen5 代表了SUSS MicroTec 最新一代的半自動掩模和鍵合對準器。 新平台為標準、高級和高端流程引入了改進的壓印處理 ...
MABA Gen4 系列掩模和鍵合對準器
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第4 代專業級MA/BA 系列係為SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置平臺,並提供包羅萬象的運用潛力。此對準器適用於150 及200 mm 以下的基板尺寸。
SUSS MA8 Mask Aligner
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Item List. Notes. Manufacturer: Karl SUSS. Model: MA8 / BA8. Wafer Size: 200mm. Vintage: 2006. Quantity: 1. Tool Condition: Used. Volts / HZ/Ph:.
SUSS MA8 双面接触式光刻机
http://www.qdjiading.com
德国suss公司的ma8光刻机,兼容4、6、8英寸wafer,Led光源,3个独立波长(g、h、i),可自定义。可以提供正面和双面套准。 比起小型高压汞灯光源,led光源 ...
曝光機(MA8BA8)
https://nems.ntu.edu.tw
儀器名稱. 曝光機(MA8/BA8). SUSS / MA/BA8 Gen3. 用途. 製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備,原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版,並 ...