opc光罩：OPC光罩
OPC光罩
IC光罩應用介紹及其未來發展
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其中輔助線型(Assist Feature) OPC可. 改善主線(Main Feature)的空間影像對比. 度及聚焦深度(Depth of focus)與相移光罩. 有相似的效果。不過加上這些額外的細. 小圖形， ...
以計算幾何學應用於晶片光罩佈局運算
https://ndltd.ncl.edu.tw
光學鄰近修正(Optical Proximity Correction, OPC)是以計算幾何為基礎的RET技術，根據模擬光罩結果修改佈局(layout)圖形，改善晶圓上圖樣以維持電路特性。本篇論文中，我們將 ...
先進光罩製作技術的挑戰
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OPC技術的使用，使原來設計圖變得更. 複雜、更微小化，以目前TMC的經驗，. OPC的光罩片資料量可達50GB以上，故. 在光罩資料處理上，由於OPC的引進，. 資料膨漲了約10 -20倍 ...
光罩工業及其製程技術之探討
https://www.ctimes.com.tw
在光罩的製作技術部分，大致可以分成傳統光罩、相位移光罩技術（ Phase Shift Mask；簡稱PSM）、光學近接修正光罩技術（Optical Proximity Correction；簡稱OPC）等三種。 三種 ...
基於影像對光學鄰近修正(OPC)後之佈局間隔檢測之 ...
https://ir.lib.nycu.edu.tw
在各種解析度增強技術的方法之中，光學鄰近修正. （optical proximity correction, OPC）是額外考慮未來光罩在曝光時會產生的繞射. 效應，為了避免曝光後的結果與預期有相當的 ...
自動化OPC之實現
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本論文提出光學效能表現指標(Optical Performance Index, OPI)用來觀察OPC後的效能，也提出一個快速的取樣點(Tagging Point, TP)選擇演算法，此演算法可以有效的選擇出適當的 ...
針對微影製程效益最大化的曲線光罩圖形
https://www.synopsys.com
光罩誤差校正工具使用完整校正的MEC光罩模型，提供可以滿足這些要求的必要基礎設施。如圖6所示，這個應用程序建立在Synopsys. Proteus Curve OPC引擎之上，並承襲極其高效的 ...
關於我們
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由於積體電路製程中的對準技術需要，OPC光罩(Optical Proximity Correction Mask)、PSM光罩(相位移光罩技術光罩Phase Shift Mask)被廣泛使用在8吋及12吋晶圓廠，各晶圓廠設備 ...