金屬蝕刻:金屬蝕刻玩一玩
金屬蝕刻玩一玩
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Electrolytic Metal Etching
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半導體金屬蝕刻機台於預防維修時之污染物逸散控制
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半導體金屬蝕刻製程主要使用Cl2(氯氣)、BCl3(氯化硼)等氣體,以. 高能電漿(plasma)離子化產生自由基(free radicals)後使其與晶圓表面之鋁. 反應將多餘之鋁蝕刻而產生溝 ...
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金屬蝕刻
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金屬蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。金屬蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和乾蝕刻(dry etching)兩類。金屬蝕刻是由一系列複雜的 ...
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金屬蝕刻基本概念(配合雷射雕刻)
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金屬材料的天敵就是各種具有酸鹼性的溶液,金屬材料的蝕刻就是利用這種特性來達到除去金屬材料的肉的一種方式;而與金屬剛好相反,有一種材料幾乎不會被酸鹼所腐蝕,那 ...
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金屬蝕刻液(Metal Etchant)
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產品介紹 ; 鈦, Ti Etch-899 A/B · UBM 鈦蝕刻(對鋁墊及大多數金屬具選擇性; 側蝕非常小等特性) ; 鈦, Ti Etch-C15, 對氧化矽具選擇性 ; 銅-鈦, TiCu Etch-621, 對於玻璃底材的 ...
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電蝕刻(Electrical Etching)
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1、陽極(紅色,氧化反應)因為金屬失去電子,表面慢慢出現蝕刻狀態(鏤空的金屬表面略呈凹. 陷狀),而且通電時間越久蝕刻深度越深越明顯。 陰極(黑色,還原反應)為得到電子而 ...