光阻灰化ash：RCA Clean製程
RCA Clean製程
Ashing（灰化）有什么作用？
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... 光刻胶。一般在显影之后进行，主要是为了除去硅片表面的极薄的胶层或抗反射层等。Ash翻译为中文，动词的意思是：“ 把……化 ... 电子功用-在去光阻制程中 ...
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在此，光阻殘渣係意指在乾蝕刻及灰化處理後在基板表面上所殘留的光阻、反射防止膜等有機化合物之不完全灰化物，聚合物殘渣係意指在被蝕刻材料壁面上所殘留的副產物，亦即乾 ...
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之後可進行一灰化步驟(ash process)或其他蝕刻製程，以移除剩餘的光阻以及位於第一凹槽32或是第二凹槽42內多餘的有機介電層38a。 如第8圖所示，依序填入一阻障層44與金屬層46 ...
光阻去除灰化製程腔體系統
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四、光阻去除灰化製程腔體系統：. 利用微波產生器進行氣體的解離，已達到氣體分子與光阻反應並且利用高溫加速光阻灰化的動作。 Process pressure:8mtorr~100mtorr.
化合物半導體自動單晶圓灰化製程探索
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灰化(Ashing)就是將稱為光阻劑的光敏塗層從蝕刻好的晶圓上去除並完成清理的過程，是晶片製造中最重要和頻繁執行的步驟之一。 此步驟要使用特殊的處理工具「燒掉」光阻劑有機物，並將低壓狀態的氧氣或氟氣暴露於高功率無線電波中來產生單原子等離子體。
多孔性低介電常數材料的非損害性清洗製程
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採用傳統電漿灰化方式的光阻去除製程會導致低介電常數（low-k）材料特性的嚴重劣化，這包括介電常數的增加和微距（critical dimension）的改變。
工學院半導體材料與製程設備學程
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2.2，通道蝕刻開後利用氧氣將光阻“灰化(Ash)”去除如圖2.3。光阻去. 除後會有殘留光阻在表面，利用濕式清洗以去光阻劑將殘留光阻清除乾. 淨如圖2.4，然後以IPA 異丙醇跟去 ...