曝光機是什麼：解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」
解讀《晶片戰爭》：世界上最複雜的機器「EUV曝光機」
曝光機
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曝光機（英語：Aligner），是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式（contact），接近式（proximity），步進式（stepper），掃描式（scanner），重複 ...
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總能買 ...
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曝光機（英文「Mask Aligner」) ，是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
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極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少，關鍵技術由 ...
UV曝光機光學
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曝光機是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵影像轉移設備，原理是利用紫外線通過光罩、底片等圖案模版，並搭配顯影劑使用，去除晶圓表面的光阻，以形成積體電路圖案 ...
半導體產業不可或缺的曝光機，是「這些企業」的心血結晶！
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從原理上看，曝光機的工作原理，就是讓光穿過光掩模，然後通過一系列透鏡將其縮小，最終落在覆蓋有曝光膠的基板上。由於光掩模，曝光膠的某些部分被光照射，使其 ...
曝光機Mask Aligner設備如何執行量測?
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是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。 可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷射和類似投影 ...
從ASML的曝光機產品生命週期，看到設備股的營運模式
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ASML是全球半導體設備領域的領軍企業，其曝光機（光刻機）在先進晶片製造中扮演關鍵角色。這些設備技術極其複雜且昂貴。從設計、製造到最終退役，每一個 ...
半導體曝光機市場供給面概況
http://www.ais.nptu.edu.tw
#曝光機製程簡述 曝光機本質上是一個投影系統，它以光為刀具，先在晶圓的表面覆蓋一層對光高度敏感的光阻劑 (photoresist)，再以強烈光線(雷射光或水銀燈 ...
別鬧了! 8奈米
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兩岸譯名有所不同，曝光機在中國叫光刻機，而套刻精度在英文中是overlay accuracy ，指的是上下2層光罩層對準（align）可能產生的最大誤差，這與能用此曝光機能 ...