UV 製程:極紫外光微影製程

極紫外光微影製程

極紫外光微影製程

極紫外光微影(英語:Extremeultravioletlithography,EUVL)又稱作超紫外線平版印刷術,是一種使用極紫外光(EUV)波長的微影製程(lithography)技術,目前用於7奈米 ...。其他文章還包含有:「ProducerNanocure3UVCure」、「UV光硬化樹脂之發展與應用」、「UV接著劑PhotolecA系列」、「UV曝光機光學」、「UV鍍膜技術」、「半導體產業用UV膠帶發展與市場資訊」、「半導體用光阻劑之發展概況」、「晶圓紫外線光阻硬化系統」

查看更多 離開網站

Provide From Google
Producer Nanocure 3 UV Cure
Producer Nanocure 3 UV Cure

https://www.appliedmaterials.c

製造奈米多孔低介電值薄膜的製程分為兩個步驟,第一步為以PECVD 法沉積有機矽玻璃「支柱」及熱不穩定有機相沉積,第二步為以紫外缐(UV) 固化去除不穩定相部分(因而產生 ...

Provide From Google
UV光硬化樹脂之發展與應用
UV光硬化樹脂之發展與應用

https://www.pidc.org.tw

紫外光硬化(UV curing)技術,是由1970年代開始發展的綠色技術,其優點是製程不會有有機溶劑的揮發,可以減少能源的浪費,提高交聯密度,製程時間縮短,品質容易控制, ...

Provide From Google
UV接著劑Photolec A系列
UV接著劑Photolec A系列

https://www.sekisui.com.tw

混雜物少,不含鹵素 · 優秀的UV硬化性 · 高透明度,高折射度 · 多種粘度的選擇,適用於不同工程 · 低透濕性 · 回流耐熱性(即使回流後仍保持透明性) · 也提供通過UV照射可以硬化 ...

Provide From Google
UV曝光機光學
UV曝光機光學

https://www.control-optics.com

裕群光電針對散射光模組開發單一波長及多波長混光之UV LED模組,可運於PCB散射光曝光機、TOUCH固化製程、玻璃貼合等製程,可將傳統汞燈光源改為LED光源,可大幅減少汞 ...

Provide From Google
UV鍍膜技術
UV鍍膜技術

https://www.genossen.co.jp

UV coating technology. UV鍍膜技術. 首頁 / 技術及製程競爭力 / 技術工藝 / UV鍍膜技術. 精密光學鍍膜 極致加工品質. 具備螢石鏡片鍍膜技術; 先進鍍膜材料應用 ...

Provide From Google
半導體產業用UV膠帶發展與市場資訊
半導體產業用UV膠帶發展與市場資訊

https://www.materialsnet.com.t

UV膠帶可以應用於晶圓研磨和切割、陶瓷材料被動元件及LED散熱基板陶瓷片切割製程、玻璃基板研磨和切割等之加工程序,使矽晶圓等元件於研磨、切割的 ...

Provide From Google
半導體用光阻劑之發展概況
半導體用光阻劑之發展概況

https://www.moea.gov.tw

正型光阻其未被光罩覆蓋的光阻區域,在UV照射後,可被顯影液輕易的帶離; ... 光阻劑的技術研發因先進製程的持續演進而不斷的進化中,以下內容將詳細 ...

Provide From Google
晶圓紫外線光阻硬化系統
晶圓紫外線光阻硬化系統

https://www.mactech.com.tw

UV照度高達650mw/cm2;產速快 3.適用12吋/8吋晶圓 4.自動照度監控及燈管壽命管理 5.防UV漏光及安全設計完備 6.照射均勻性80%以上(初始值) (直徑300mm圓5點量測).