電解銅箔製程:TWI619850B

TWI619850B

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本發明公開一種電解液、電解銅箔及其製造方法。電解液用以製造電解銅箔,且電解液包括50至90g/L的銅離子、50至120g/L的硫酸以及濃度不超過1.5ppm的氯離子。。其他文章還包含有:「LCYTECHNOLOGYCORP.李長榮科技∣銅箔產品與製程」、「PCB資訊」、「專利快訊」、「銅箔的製程與應用」、「銅箔製程」、「電解銅箔的市場與技術發展趨勢」

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