euv光刻機：光刻機訂單陸占3成ASML
光刻機訂單陸占3成ASML
中國「晶片自主」缺很大! 汪波
https://tw.news.yahoo.com
汪波指出，中國在晶片研發上第一是缺高端EUV 光刻機以及相應的半導體材料，現在的極紫外線光刻機（EUV）就像一座小型冰山，佔地約80 平方米，大量管道和線 ...
中國「晶片自主」缺很大! 汪波
https://newtalk.tw
汪波指出，沒有高端的EUV 光刻機，中國只是造不出最先進的晶片，而沒有了EDA 設計軟件，所有的晶片設計公司都要停工。目前，中國已經有了華大九天、概倫 ...
全球瘋搶EUV 曝光機！究竟是摩爾定律的救命曙光
https://www.charmingscitech.na
極紫外光（Extreme ultraviolet, EUV）是波長小於13.5 奈米的光，使用EUV 作為光源的曝光機，即為EUV 曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少，關鍵 ...
半導體解密：ASML曝光機憑什麼能一廠獨大？台積電總 ...
https://www.techbang.com
但EUV曝光機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，其配套的抗蝕劑和防護膜的 ...
日本荷蘭限制對華晶片技術出口，光刻機巨頭進一步面臨兩難
https://www.bbc.com
作為製造半導體晶片的關鍵設備，光刻機一般分為三種，即最早的UV（紫外線光刻機），和後來的DUV（深紫外線光刻機）以及EUV（極紫外線光刻機）， ...
極紫外光微影製程
https://zh.wikipedia.org
極紫外光微影（英語：Extreme ultraviolet lithography，EUVL）又稱作超紫外線平版印刷術, ... 目前EUV微影製程機台由艾司摩爾所開發出的Twinscan光刻機所獨霸一方。
頭條揭密》美日開發無EUV光刻機技術ASML將更依賴中國市場
https://www.chinatimes.com
據外媒報導，美國晶片巨頭美光最近已開始量產無需EUV光刻機的1β(1-beta)製造工藝，主要是ASML的EUV光刻機價格太過昂貴，第1代EUV光刻機售價達到1.2億美元 ...