中國euv光刻機:黎蝸藤專欄:光刻機禁售令中的「科技轉移」問題辨析

黎蝸藤專欄:光刻機禁售令中的「科技轉移」問題辨析

黎蝸藤專欄:光刻機禁售令中的「科技轉移」問題辨析

2023年7月16日—中國要在量產自製高端芯片上取得突破,就必須有EUV光刻機。ASML對中國禁止出口,就意味著中國無法在短期內獲得量產高端芯片的能力。中國要自己開發EUV光 ...。其他文章還包含有:「【盧秀芳辣晚報】"石破天驚!"大陸"EUV光刻機搞定""中國速度...」、「不甩日半導出口禁令陸首台國產28nm浸潤式光刻機年底交付」、「中國「晶片自主」缺很大!汪波」、「中國晶片業擴張迅速首台國產28奈米浸潤式光刻機有望年底...」

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