光 罩 清洗劑：TWI673566B
TWI673566B
Electro Scrub 清潔化學液
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Inc也提供了先進光罩同時可去除光阻與底部抗反射層(BARC)製程的清潔產品。 Electro Scrub Technology. Inc的品質部門在每批產品出貨前，都會進行完整的檢測工作。
PR Stripper
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Mask clean光罩清洗機目前主要產品應用於清洗9吋及14吋光罩，清洗方式為利用旋轉光罩配合高壓水、毛刷清洗或是化學品噴灑於光罩上去除沾黏的光阻。 清洗實例如上圖。 光罩 ...
光罩清洗機
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Products · 1. 光罩尺寸：7x7, 9x9, 14x14 · 2. 清洗方式：化學液滴洗(離心力)+高壓純水掃洗 · 3. 使用藥液：雙氧水+硫酸，介面活性劑+氨水混合，丙酮(IPA) · 4. 輔助 ...
光罩清洗機MDMC
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SPIN旋轉清洗形式，有效去除光罩表面附著污物之洗淨及去除 因應各種產品尺寸，更換固定治具即可作業，提升機台功能性 搭配超音波水洗清洗，去污力提升
微影光罩的不同清洗方法的效果比較
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其中來自光罩清. 洗過程的硫離子或銨離子殘留，被視為Haze 形成的主要貢獻者，故國. 內外學者著手改善光罩清洗方法，以降低Haze 的產生。 目前已發表的改善方法各有其優 ...
最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)
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其適用於有光阻圖形之二氧化矽蝕刻，因其溶液內含NH4F 用以當化學緩衝劑用。所謂的化學. 緩衝劑就是當少量的強酸或強鹼被加入時，其可抑制PH 值被改變的一種溶液。
長信昇
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可有效清除油滴、有機及無機partilce、碳粒、灰份、氧化鎂、氧化鈰研磨粉末等。 已成功應用於光罩護膜治具的清洗及玻璃基板和塑膠鏡頭的清洗。