hpm製程：10nm快登場還沒弄懂手機處理器工藝嗎

10nm快登場還沒弄懂手機處理器工藝嗎

2016年3月13日—一直以來的半導體行業，尤其是處理器的工藝制程和架構都是技術宅所關心....看看HPM、HP、HPC+、HPC、HPL這些形似神不似的專業術語究竟有什麼區別？。其他文章還包含有：「28奈米HPM製程」、「HPM技术」、「RCAclean製程」、「創意擴增28nm晶片驗證IP，採台積電HPM製程」、「工學院半導體材料與製程設備學程」、「第一章緒論」、「製程介紹」、「高科技半導體廠之地上工程」

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28奈米HPM製程

https://www.digitimes.com.tw

28奈米HPM製程 ... 此技術是針對行動通訊市場而開發，擁有高達3GHz的運算頻率，主要特色是低功耗、省電、高效能等，符合現在智慧型手機(Smartphone)、平板 ...

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HPM技术

http://www.cptmim.com

HPM工艺制造流程 · 混料 · 混炼 · 压制成型 · 脱脂 · 烧结 · 后制程加工 ...

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RCA clean 製程

http://www.gptc.com.tw

一般金屬氯鹽皆可輕易溶於水中，因此HPM利用雙氧水氧化污染的金屬，再以鹽酸與金屬離子生成可溶性氯化物而溶解。製程中最常使用的是HCl : H2O2 : H2O=1 : 1 : 6 體積比，在 ...

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創意擴增28nm晶片驗證IP，採台積電HPM製程

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而創意全新的複合式IP將使用台積電(2330)的28nm HPM製程，提供PHY、控制器與DDR系統完整的解決方案。創意指出，新的IP面積比功能類似的40nm IP小20%， ...

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工學院半導體材料與製程設備學程

https://ir.nctu.edu.tw

1963 年，Kern [35]發表了最初的RCA 標準清洗該技術. 使用APM 和HPM 兩種清洗液，這是半導體清洗技術的重要里程埤，一直. 到現在，RCA 都還是半導體製造業大量使用的清潔 ...

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第一章緒論

https://ir.nctu.edu.tw

HCl/H2O2/H2O:主要是應用在金屬離. 子之去除。利用HCl 所形成之活性離子易於金屬離子化合之原理。一般是以. HCl:H2O2:H2O ＝1:1:6 ...

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製程介紹

https://www.tptmim.com

為什麼選擇TPT · 公司沿革 · 設備產能. 製程介紹 ▻. 為什麼選擇MIM · MIM · HPM · 品質政策. 產品應用 ▻. 工具類 · 消費電子類 · 醫療類 · 槍枝類 · 鎖類 · 腳踏車類.

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高科技半導體廠之地上工程

http://www.ciche.org.tw

由於高科技半導體廠房的製程越來越進步，其精 ... HPM（Hazardous Production Materials）危險物料區， ... 一混合式的結構系統，將前述無塵室、迴風道與HPM.

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