mask aligner中文：光學微影系統(Mask Aligner and Exposure System)

ABM. Inc. Mask Aligner光刻機

https://abmasia.com.hk

關於我們: 業界知名的曝光機制造商ABM, Inc.為半導體領域提供品質優良穩定的光罩對準紫外光刻機系統，被廣泛的應用於半導體黃光制程，微機電，發光二極體（LED ）晶片 ...

Mask Aligner

https://www.suss.com

SUSS MicroTec的光罩與接合對準平臺，能夠對光罩到晶圓、晶圓到晶圓的操作進行高精度對準。該設備可加工任何材料種類、300 mm以下尺寸的基板和晶圓。通過多種附加功能，光 ...

光刻機

https://www.jendow.com.tw

光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫Mask Alignment System. 一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗 ...

光罩對準曝光機(Mask Aligner)

https://nanofc.web.nycu.edu.tw

國立東華大學理工學院貴重及共同儀器使用暨管理辦法

https://c006.ndhu.edu.tw

中文名稱：光罩對準機。 英文名稱：mask aligner。 2. 儀器廠牌型號、購置年份. 廠牌型號：AG350-4N-S-S-M-H。 購置日期：2007年11月。 3. 服務項目. 單面光罩對準機 ...

數位光阻材料技術與應用

https://www.materialsnet.com.t

目前產業界曝光技術主要仍以光罩式傳統曝光技術為主，例如使用光罩對準機(Mask Aligner)如圖三(a)，光罩與光阻層直接接觸，平行光從光罩的透明區域穿 ...

曝光機

https://zh.wikipedia.org

曝光機（英語：Aligner）是積體電路製造的關鍵裝置。從發展歷史來看一共五種機型，分別為接觸式(contact)，接近式(proximity)，步進式(stepper)，掃描式(scanner)， ...

曝光機Mask Aligner設備如何執行量測？

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是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長雷 ...