pvd優缺點：真空鍍膜技術

ALD PVD CVD 鍍膜製程優劣比較表

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項目. 原子層沉積(ALD). 物理式真空鍍膜(PVD) ; 沉積原理. 表面反應-沉積, 蒸發-凝固 ; 沉積過程. 層狀生長, 形核長大 ; 臺階覆蓋率. 優秀, 一般 ; 沉積速率. 慢, 快 ...

PVD、IP、DLC，你搞懂這些錶殼加工名詞了嗎

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PVD与CVD性能比较

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优点: PVD 技术制备出的薄膜具有硬度和强度高、热稳定性好、耐磨性好、化学性能稳定、摩擦系数低、组织结构致密等优点。与CVD 相比低温沉积且薄膜内部 ...

PVD与CVD性能比较

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优点: CVD 可以在真空低的条件下沉积涂层，各种氮化物、碳化物、氧化物、硼化物、硅化物涂层的制备，可在低于其熔点，或分解温度的沉积温度下进行，设备 ...

PVD濺鍍

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PVD濺鍍原理. PVD設備結構介紹. PVD濺鍍設備結構. PVD濺鍍的優點與限制: a. 優點~. 無污染。 多用途。 精度高不影響外觀尺寸。 膜層附著性佳。 膜層硬度佳。 b. 缺點~.

PVD真空鍍膜(濺鍍)

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PVD真空電鍍優點:金屬外觀，高光亮。顏色均勻，不退色。良好耐候性，抗氧化，抗腐蝕。環保製程零污染，無有害物質。高耐磨、高硬度，不易刮傷。

真空PVD濺鍍原理

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PVD離子鍍膜具有如下優點：. 1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀複雜的工件3．膜層沉積速率快，生產效率高4．

真空電鍍和化學鍍各有什麼優缺點？告訴你其中隱藏的秘密！

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PVD PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都 ...