黃光微影製程:微影
微影
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https://scitechvista.nat.gov.t
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光阻劑
http://homepage.ntu.edu.tw
第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質.
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微影
http://140.127.114.187
◇微影的製程在經過軟烤的程序之後,原本液態的光阻劑便. 在晶片上固化。 ◇半導體3um以下的製程,主要是以正片進行圖案的轉移。 ◇光罩上面的圖案,將 ...
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第一章緒論
https://ir.nctu.edu.tw
曝光是微影製程中最重要的一環,其原理並不複雜,但是因為尺寸的微小以精度的要. 求,使得曝光製程在技術上變的相當困難,由於IC 都是以十幾層以上不同圖案的光罩,. 經過 ...
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米雕? 光雕? 來、來、來,簡單玩光學微影曝光!
https://www.narlabs.org.tw
簡言之,我們經由簡易的微影製程將光罩上所有圖形轉移到晶圓上了。我們是在暗室中完成實驗過程,實際的微影製程是在不易對阻劑感光又能清楚操作的黃光室中 ...
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黃光微影製程技術
http://mems.mt.ntnu.edu.tw
光罩繪製是微影製程最基本步驟,透由光刻程序將光罩上的圖案的轉移. 至光阻,才能在基材上製作微結構。 圖案(Layout)設計. CADENCE. L-EDIT. AUTOCAD. 轉檔成GDS格式.