wafer照uv：微影光罩的不同清洗方法的效果比較
微影光罩的不同清洗方法的效果比較
由吳珮絹著作·2012—Withthetrendofshorterwavelength,thecontaminationonmaskwillbecomeeasiertotransferfailedpatterntowafer,andcausetheyieldtodrop.Thiskind ...。其他文章還包含有：「2282」、「WaferUVResistHardeningSystem晶圓紫外線光阻硬化系統」、「半導體產業用UV膠帶發展與市場資訊」、「半導體製造總覽」、「微影照像」、「晶圓紫外線記憶抹除機(量產型)」、「第一章緒論」、「紫外线UV灯如何应用于晶圆光擦除领...
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2282
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採用UV LED 光源，均勻度佳，壽命長，工作溫度低，照度監控 · 配備氮氣腔，氮氣耗量小，效果佳 · 支援RFID，SECS／GEM，空中無人搬運OHT 系統 ...
Wafer UV Resist Hardening System 晶圓紫外線光阻硬化系統
https://www.mactech.com.tw
正性光阻劑照射UV後，透過DNQ分子結構與酚醛樹脂分子量、化學. 鍵結結構發生重合反應，提高了抗蝕刻性、熱安定性。 In the semiconductor fabrication ...
半導體產業用UV膠帶發展與市場資訊
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UV膠帶在半導體構裝應用主要可分為晶圓研磨(Back Grinding)與晶圓切割(Dicing)用兩大類，其應用製程如圖二所示。 圖二、UV膠帶應用於晶圓減薄及切割 ...
半導體製造總覽
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光刻成像, UV 光學光刻用於形成晶圓上元件結構的圖形。將抗蝕劑沉積在晶圓上，然後透過掃描儀中的遮罩照亮抗蝕劑，隨後在顯影劑軌道中顯影。 光刻步驟的控制至關重要， ...
微影照像
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於晶圓（wafer）表面。光罩在要求的公差之內，在晶圓上對準，然後輻射照在晶圓. 之上，阻劑影像顯影（development），阻劑下層被蝕刻掉。 圖1.1 幾種ULSI的微影照像 ...
晶圓紫外線記憶抹除機(量產型)
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4.無臭氧燈管設計,設備不需加裝熱排管 5.機體防漏光設計/門誤開熄燈設計,操作高安全性 6.操作及換燈簡易設計. MACTECH Wafer UV Eraser Systems20190528.
第一章緒論
https://ir.nctu.edu.tw
Peterson [17]提出有關黃光區域所發生的典型問題有相關照片及晶片圖. (wafer map)如圖1-3 所示。 ... 光阻劑（g-line,I-line,Deep UV 光阻）.
紫外线UV灯如何应用于晶圆光擦除领域？
https://www.gzlongpro.com
自从2014 年至今，朗普成功为多家深圳晶圆加工企业提供UV 光擦除装置，降低了晶圆加工成本， ... 晶圆（wafer） 是制造半导体器件的基础性原材料。