半導體廢水成份：半導體廠氫氟廢水CaCl2 加藥模式建立及減量之應用

半導體廠化學機械研磨(CMP)廢水回收再利用可行性評估

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CMP製程是耗水量多及高污染的晶圓製造步驟之一，過去因CMP廢液處理之複雜性而被忽視，CMP廢水成份之複雜性起源於其有許多不同的處理程序及使用各種不同的化學葯品， ...

半導體廢水處理技術的現在與未來，這些事你不可不知！

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廠房機台的廢水回收系統，經活性碳去除氧化物質後，再利用RO逆滲透膜去除雜質，回收再使用，讓每年廢水回收率高達87.4％。 water resources. 半導體水資源 ...

半導體晶圓廠機械研磨(CMP)廢水的處理(上)

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CMP研磨程序於研磨時會添加研磨液磨光，研磨後，再以純水混和清洗劑洗淨。而其中成份包含：有機污染物(金屬錯合劑、分散劑、介面活性劑、腐蝕抑制劑和酸性物質等。)， ...

半導體業廢棄物資源化技術手冊

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劃，由於半導體業者所產生之廢硫酸成份與一般工業級硫酸相似，. 因此可以替代原料方式來利用生產「聚氯化鋁」、「聚硫酸鐵」等廢. 水處理混凝劑。 1.廢水處理混凝劑之 ...

半導體製造業化學機械研磨廢水特性及其處理

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(1)柱槽溶氣加壓浮選處理半導體CMP 廢水. 林等(1999)以氧化層CMP廢水為主要研究樣品，因此成份以矽之氧化物為. 主，其它夾有鐵、鉀、鈣等雜質，組成成份不均一。

水回收技術評選

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水管理

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台積公司依製程廢水成份與濃度分門別類建立38種分流系統，建置完整的廢水分類及資源化系統，搭配後續處理設備，使各廢水系統有效降解汙染物、並經由回收系統濃縮再利用， ...

科學園區半導體產業廢水處理方法簡介

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此項廢水為製程廢水之大宗，其來源有硫酸、雙氧水、磷酸、氨水及鹽酸等。經製程使用後，依既設管路排放至廢水處理廠時，其pH值多保持在2~4之間。處理時 ...