研磨液 回收：以電解混凝法處理回收化學機械研磨廢水

切削研磨廢液處理情形

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高鹽廢水生物降解—硝酸鹽氮 · 氟矽廢液處理情形(降解氨氮&氟)—太陽能光電業者 · 高濃氫氟酸(HF)廢液改善處理情形--宏*玻璃 · 高濃NO3-N硝酸鹽氮降解測試(陽極處理廠 ...

化學機械研磨廢水相關處理技術

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因此，CMP 廢水包含來自於研磨液、晶圓本身以及CMP 後續. 清洗程序所產生的各種無機及有機污染物質，大部份的無機物質係. 以氧化物存在，主要的非溶解性無機物來自研磨 ...

半導體廠化學機械研磨(CMP)廢水回收再利用可行性評估

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CMP廢水內含氧化膜研磨廢液及金屬膜研磨廢液，經模廠試驗處理後之水質可達回收再利用之水質標準，再以此模廠操作條件做為擴大實廠之設計基準。最後根據模廠運轉結果來估算 ...

半導體業研磨廢液資源化技術

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半導體製造業化學機械研磨廢水特性及其處理

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CMP廢水中，包括了研磨液本身和晶片清洗液，其中研磨液裡又視研磨砥粒. 的分散狀況而添加分散劑（ dispersing agents）、改變表面電性的界面活性劑. （surfactants）、調整 ...

台積公司首創全物理性晶背研磨廢水再生技術

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晶背研磨廢水主要由水及矽顆粒組成，具回收經濟價值潛力。業界一般藉由添加化學品藥劑使汙泥絮凝成團、沉降分離，不僅耗用化學品，亦增加廢棄物中不純物 ...

廢液回收系統

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信紘科提供廢液回收系統(Waste Chemical Collection System, WCCS) Turn-key服務，設備具全自動廢酸收集功能、收集槽穩定量體管理、防火功能、完備排放承漏裝置、獨立 ...

水回收技術評選

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研磨時－添加研磨液磨光。(奈米研磨砥粒、化學物質). 研磨後－以純水＋清洗劑洗淨。(化學混合物質). ▫CMP廢水成份：. 有機污染物－金屬錯合劑、分散劑、介面活性劑、.

研磨機切削液底泥回收淨化效果實測

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原傳底屑收集過濾機，多項專利設計，能輕鬆把水箱中的污泥清除，並且能將污泥收集乾燥，方便客戶回收。水箱中底泥清除完畢後，可繼續進行1um的精密過慮將水中懸浮的細粉濾 ...