旋轉塗佈缺陷:旋轉塗佈光阻減量實驗之研究

旋轉塗佈光阻減量實驗之研究

旋轉塗佈光阻減量實驗之研究

由胡登凱著作·2015—本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出,但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象,製程中採用稀釋 ...。其他文章還包含有:「CN106132564A」、「【為台灣加油打氣專欄】我國的塗佈機技術」、「大面積基板塗佈製程解析」、「彩色濾光片之先進製程與缺陷改善學生:蔡憲慶指導教授」、「旋轉塗佈光阻減量實驗之研究」、「旋轉塗佈技術簡介」、「真...

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CN106132564A
CN106132564A

https://patents.google.com

本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法:其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成,从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间,同时保持膜均匀性 ...

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【為台灣加油打氣專欄】我國的塗佈機技術
【為台灣加油打氣專欄】我國的塗佈機技術

https://www.automan.tw

在進行旋轉塗佈時,由於離心力的關係,光阻會從晶圓中央往外擴散,過程 ... 的光阻可能會在該位置產生缺陷,造成該位置的晶片變成報廢品,請看圖二。

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大面積基板塗佈製程解析
大面積基板塗佈製程解析

https://www.materialsnet.com.t

擠壓及旋轉塗佈法(Slit and Spin. Coating)中,擠壓式(Slit Die)係將光阻先. 塗佈在基板,真正決定厚度的還是旋轉. 塗佈。旋轉塗佈是流體離心力與黏滯力.

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彩色濾光片之先進製程與缺陷改善學生:蔡憲慶指導教授
彩色濾光片之先進製程與缺陷改善學生:蔡憲慶指導教授

https://ir.nctu.edu.tw

在光阻旋轉塗佈完成之後,Wafer 邊緣的光阻需先清除,以免造成光阻. 的殘留。其所使用的的機構稱為端面處理(EBR),在清洗頭中通入溶劑、. Air、H2O 以利光阻 ...

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旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究

https://ndltd.ncl.edu.tw

本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出,但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象,製程中採用稀釋 ...

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旋轉塗佈技術簡介
旋轉塗佈技術簡介

http://synrex.com

優點. - 操作簡單,產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%),大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。

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真空科技
真空科技

https://tpl.ncl.edu.tw

外隨著轉速與光阻溶劑黏度的不同,附著於基. 板的黏著力與溶劑本身的內聚力也都會對膜厚. 輪廓造成影響。 一般常見的旋轉塗佈缺陷,為慧星狀之白 liquid resist.

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精密塗佈製程之缺陷診斷分析技術
精密塗佈製程之缺陷診斷分析技術

https://coating.itri.org.tw

其他在塗佈製程中常見的缺陷有:氣泡、顆粒、橘皮、肥邊、直紋、橫紋、火山口、Dewetting、彩虹紋、擴邊、龜裂、壓印、翹曲、垂流、色澤不均、針孔、縮邊、掉粉、finger…等 ...

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藉由旋轉塗佈法製備高穩定性之p
藉由旋轉塗佈法製備高穩定性之p

https://ndltd.ncl.edu.tw

... 之穩定LiMgZnO溶膠,再利用旋轉塗佈的方式將LiMgZnO漿料均勻鍍於玻璃基板之上。 ... 載子遷移率為130 cm2/Vs,其原因為Li取代Zn會因為缺陷化學而產生大量電洞, ...