旋轉塗佈缺陷：旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
CN106132564A
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本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性 ...
【為台灣加油打氣專欄】我國的塗佈機技術
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在進行旋轉塗佈時，由於離心力的關係，光阻會從晶圓中央往外擴散，過程 ... 的光阻可能會在該位置產生缺陷，造成該位置的晶片變成報廢品，請看圖二。
大面積基板塗佈製程解析
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擠壓及旋轉塗佈法(Slit and Spin. Coating)中，擠壓式(Slit Die)係將光阻先. 塗佈在基板，真正決定厚度的還是旋轉. 塗佈。旋轉塗佈是流體離心力與黏滯力.
彩色濾光片之先進製程與缺陷改善學生：蔡憲慶指導教授
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在光阻旋轉塗佈完成之後，Wafer 邊緣的光阻需先清除，以免造成光阻. 的殘留。其所使用的的機構稱為端面處理(EBR)，在清洗頭中通入溶劑、. Air、H2O 以利光阻 ...
旋轉塗佈光阻減量實驗之研究
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本技術論文主要以減少光阻的浪費率及成本支出，但在研究構想中會因減量塗佈而產生的不穩定手指狀、塗佈不完整的鋸齒狀及膜厚度不均勻的色差現象，製程中採用稀釋 ...
旋轉塗佈技術簡介
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優點. - 操作簡單，產品成熟度高。 - 塗佈膜厚均勻性佳(± 3-5%)。 ○ 缺點. - 塗液使用率過低(~2%)，大部分於Spread Spin. 階段損耗。 - 旋轉速度在大尺寸基版有限制。
真空科技
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外隨著轉速與光阻溶劑黏度的不同,附著於基. 板的黏著力與溶劑本身的內聚力也都會對膜厚. 輪廓造成影響。 一般常見的旋轉塗佈缺陷,為慧星狀之白 liquid resist.
精密塗佈製程之缺陷診斷分析技術
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其他在塗佈製程中常見的缺陷有：氣泡、顆粒、橘皮、肥邊、直紋、橫紋、火山口、Dewetting、彩虹紋、擴邊、龜裂、壓印、翹曲、垂流、色澤不均、針孔、縮邊、掉粉、finger…等 ...
藉由旋轉塗佈法製備高穩定性之p
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... 之穩定LiMgZnO溶膠，再利用旋轉塗佈的方式將LiMgZnO漿料均勻鍍於玻璃基板之上。 ... 載子遷移率為130 cm2/Vs，其原因為Li取代Zn會因為缺陷化學而產生大量電洞， ...