ALD 原子層沉積 鍍膜 機 台：原子層沉積系統
原子層沉積系統
ALD
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原子層沉積(Atomic Layer Deposition，ALD)最早稱為原子層磊晶(Atomic Layer Epitaxy，ALE)，ALD也是一種化學氣相沉積技術(CVD)，與傳統CVD的差異在於：ALD是將一個 ...
原子層沉積技術之發展與應用
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本文將詳細介紹ALD 製程的原理，並根據筆者多年的經驗，. 由製程機制與設備設計等不同的觀點，探討各項影響薄膜沉積結果的關鍵因素。除此之外，本文 ...
原子層沉積系統設計概念與應用
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在本文中我. 們將介紹原子層沉積技術的原理、發展及機台設計的概念，並討論在半導體產業、功能性鍍. 膜與奈米結構鍍膜之應用。 The atomic layer deposition (ALD) is ...
原子層沉積系統／Atomic Layer Deposition system
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此外，目前機台對基板無特別限制，大部分基材皆可進行鍍膜，且製程溫度較低，對較不耐高溫基板亦可進行鍍膜。 二、服務項目. 提供Al2O3、HfO2、SiO2，及TiO2氧化物沉積。
奈米結構原子級薄膜製程技術—儀科中心成功開發 ...
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此次發表的「原子層沉積(ALD) 鍍膜系統」，為一由下而上(Bottom→up) 的 ... 機台，同時也已接獲國內外研發單位的探詢。藉由此項技轉過程，將可提供 ...
批次ALD(原子層)鍍膜設備
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加熱與電漿化學氣相沈積雙鍍膜方案,可獲得高均勻性與保型性的超薄薄膜. 100% 保型,精確的厚度控制,優良的均勻性規格. PE MODEL 適合製程溫度低; 可運用於迭層 ...
真空科技
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在ALD 製程設備研發方面,目前國. 際真空製程設備廠商如Applied Material、. Axitron-Genus 與ASML 等,皆已致力於. ALD 量產機台設備的研發與推廣,展望未. Mass increase ...
矽碁科技股份有限公司
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原子層沉積（ALD）為一種氣相化學沉積技術。大多數的ALD反應，將使用兩種化學物質 ... 通過穩定的溫度控制，將基板載台加熱到400°C。 材料：Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2 ...