pld沉積：材料科學與工程研究所
材料科學與工程研究所
PLD
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脈衝雷射沉積製程利用高功率脈衝雷射光，經聚焦後入射至腔體內轟擊靶材表面，使其因吸收高能量快速蒸發形成一團具有高動能的電漿氣體，沉積至待鍍的基板上形成薄膜，如下圖 ...
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PLD[脈衝雷射沉積]
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脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用雷射對物體進行轟擊，然後將轟擊出來的物質沉澱在 ...
利用脈衝雷射沉積法製備氧化鋅薄膜及特性研究指導教授
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2.1 脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition;PLD）. 整個脈衝式雷射沉積系統如圖（2.1）所示，主要的系統設備裝置可分為：（1）. 雷射光源、（2）雷射光束導引元件—光學 ...
發展利用另一道脈衝雷射在脈衝雷 ...
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脈衝雷射沉積(pulsed laser deposition，PLD)是一種簡單並且通用於成長各式各樣薄膜的技術。PLD利用一道高功率雷射透過透鏡將齊聚焦在靶材上，將其靶材加熱至汽化而 ...
脈衝激光沉積
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脈衝激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈衝激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然後將轟擊出來的物質沉澱在 ...
脈衝雷射沉積
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脈衝雷射沉積（英語：Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（英語：pulsed laser ablation，PLA）為物理氣相沉積(英語：Physical Vapor Deposition ...
脈衝雷射沉積(PLD) 在鍍膜之應用簡介
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PLD 最重要的特色,是沉積膜保留了靶的. 化學計量成分(Stoichiometry)。這是由於脈衝雷射照射(Pulsed Laser Irradiation),使靶表面的. 加熱速率(Heating Rate)極高(>10 ...
脉冲激光沉积（PLD）简介
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脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，简称PLD），是一种利用激光对靶材进行轰击，将轰击出来的等离子体沉积在衬底上，进行薄膜生长的技术。
電漿輔助脈衝雷射沉積法製作氧化鋅薄膜抗反射鍍膜
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脈衝雷射沉積法(Pulsed laser deposition，PLD)是目前主要鍍膜方式其中一種，藉由利用高能量的脈衝雷射將靶材瞬間蒸發，使得靶材上的元素組成可完整的保持比例， ...