pvd設備：「PVD」找工作職缺
「PVD」找工作職缺
FPD
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設備產品 · 磁控濺鍍. 濺鍍沉積為一種物理氣相沉積方法，通過從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來形成薄膜。 · 磁控共濺鍍設備. 磁控共濺鍍指同時有兩個或多個磁控濺鍍槍 ...
PVD
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PVD 沉積製程使用於建立超薄、超純金屬和過渡金屬氮化物薄膜可以為半導體製造的各種邏輯和記憶體應用。最常見的PVD 應用是鋁板和焊盤金屬、鈦和氮化鈦線性層、阻障層沉積、 ...
PVD真空電漿鍍膜設備
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產品規格 ; 技術. PVD 陰極多弧技術 ; 設備外觀尺寸(mm). W 1900. D 4000. H 2100. W 1900. D 4800. H 2600 ; 腔體內部尺寸(mm). Ø850*950. Ø850*1200 ; 最大基底載重(kg). 500.
PVD薄膜沉積製程中設備狀態的量測
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Pvd，物理氣象沉積英文：Physical vapor deposition，工業製造裡鍍膜技術的一種，主要利用物理方式來加熱或激發出材料過程來沉積薄膜的技術，物理方式是指物質的相變化現象 ...
PVD設備、資訊軟體系統類、研發相關類、操作／技術
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2023/9/27－45 個工作機會｜生產類--薄膜CVD/PVD 設備工程師(高雄)【華邦電子股份有限公司】、半導體設備工程師【碩輝科技股份有限公司】、設備工程師主管【旭昇精密 ...
「PVD設備」找工作職缺
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2023/10/26－39 個工作機會｜生產類--薄膜CVD/PVD 設備工程師(高雄)【華邦電子股份有限公司】、半導體設備工程師【碩輝科技股份有限公司】、ODM設備工程師/主管【美商 ...
工具鍍膜PVD設備
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與其它真空鍍膜方法相比,電弧鍍膜具有離化率高，可鍍多種膜層，膜層品質好，鍍膜效率高，蒸發源可以任意方式放置，可製造大型設備，可在較大範圍內控制溫度等優點，使其 ...
真空鍍膜技術
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PVD（Physical vapor deposition)物理氣相沉積技術:在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製作技術。主要方法包括蒸鍍、濺鍍和離子鍍。