台積電製程歷史：90奈米製程

台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展（SEMICONJapan）中，發表已順利使用浸潤式曝光（ImmersionLithography）機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。。其他文章還包含有：「0.18微米製程」、「5奈米製程」、「TSMC30週年大記事」、「公司介紹」、「台灣積體電路製造」、「台灣積體電路製造股份有限公司」、「台積電：台灣「護國神山」成長記」、「第四章個案介紹」、「邏輯製程」